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引言( T3 p* }- W" {9 t( v
可編程光電子集成線路(PPICs)正在成為一項具有巨大創(chuàng)新潛力的新興技術(shù),在量子光學(xué)、通信和機(jī)器學(xué)習(xí)等多個領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。這些線路可以被編程執(zhí)行各種功能,無需定制設(shè)計,有望徹底改變我們在芯片上操縱光的方式。本文將探討PPICs的不同架構(gòu),重點關(guān)注其路由能力以及各種因素對性能的影響。- j: M6 S; I! Z- n6 b- R4 h
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+ B7 Y$ G7 f& Q# pMesh架構(gòu)
: _/ l# I$ S, BPPIC的核心是由波導(dǎo)和可調(diào)諧耦合器組成的mesh結(jié)構(gòu)。這些耦合器可以被編程為不同的狀態(tài)(直通、交叉或耦合),從而靈活控制線路中的光流。這些組件的排列形成了mesh架構(gòu),對線路的路由能力有顯著影響。& z" E1 N, c! M% s x( b9 U
3 u5 M. y& A( X
讓我們來檢視四種主要的mesh架構(gòu):三角形tile方形tile六邊形tile環(huán)連接直線(RCSL)
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/ C8 o7 S8 c& G% V& i: w圖1展示了這四種架構(gòu)。
$ {8 w% F5 i' t/ _每種架構(gòu)都有其獨特的特征,影響路由性能:
9 c8 y' _3 }3 Q; y) i" ^* f1 `+ u: Q7 }
1. 三角形tile(圖1a):這種架構(gòu)使用最小的規(guī)則形狀進(jìn)行鋪設(shè)。然而,它傾向于為光信號創(chuàng)建低效的之字形路徑。: d/ v' X4 c+ L9 v$ e# Z% a/ O
. Q% |$ e; V2 j" @2. 方形tile(圖1b):一種常見且簡單的設(shè)計,但在某些路由情況下可能導(dǎo)致不必要的長路徑。" D9 E' e# \* K% M, _, Z9 x
1 K' X d, K9 ^% a; x( L& A
3. 六邊形tile(圖1c):這種架構(gòu)在路由方面提供了更多的靈活性,通常被認(rèn)為是最有潛力的設(shè)計。
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$ c6 ]# \; G, d- f0 q# k% J4. 環(huán)連接直線(圖1d):這項研究中引入的一種新型設(shè)計,旨在提供高效的直線路由選項。
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光電子Mesh中的路由% Y+ D* T( p2 O
PPICs中的路由涉及通過mesh將光從源端口引導(dǎo)到目標(biāo)端口。每個可能的連接都可以表示為一個圖,外部端口作為將光耦合進(jìn)出mesh的接口。
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圖2顯示了六邊形波導(dǎo)mesh中可能連接的圖形表示。彩色節(jié)點代表外部端口,而內(nèi)部連接說明了光在mesh中可能采取的路徑。7 \+ R/ O3 o2 Q3 ^
2 y* Y9 k s% D2 U/ y2 M) U比較Mesh架構(gòu)* t3 y. O; x4 ]( _) ~, E! p
為了評估不同mesh架構(gòu)的性能,我們需要考慮幾個因素:/ T/ J. A3 _( ]( P f
D7 Z: i, ]1 x" d1. 最大可路由commodities數(shù):這個指標(biāo)表示mesh可以支持多少個同時連接。
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/ k9 L: I* R# [5 s6 b圖3顯示了不同mesh架構(gòu)的平均最大可路由commodities數(shù)。六邊形tile和RCSL設(shè)計始終優(yōu)于三角形和方形tile。
. s- A, a. |6 U# l+ v0 ^- u0 a3 c0 u
4 @9 s" g% P3 A" o/ x2. 平均路徑長度:這個指標(biāo)通過考慮信號必須通過的耦合器數(shù)量來衡量路由效率。5 i2 n" T. M) Z/ P2 c
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7 A5 l9 t% R @圖4顯示了不同架構(gòu)的平均路徑長度。RCSL設(shè)計平均提供更短的路徑,而三角形tile導(dǎo)致顯著更長的路徑。
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3. 路由效率:這可以表示為實際路徑長度與端口之間理想直線距離的比率。
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圖5說明了不同架構(gòu)的這種效率比率。較低的值表示更高的路由效率。RCSL和六邊形tile的表現(xiàn)通常優(yōu)于方形或三角形tile。4 l; }' m9 }$ Q+ ]0 Y0 h6 U. t
' g# {1 ^8 ^! j+ m特定路由場景中的性能/ j o) c3 ]5 b8 Z
雖然隨機(jī)路由模式提供了一般性能概覽,但特定路由場景可以突出不同架構(gòu)的優(yōu)缺點。( h+ a4 D" }" H, z7 M$ [
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2 h2 ^( B8 Y- C: W圖6* l1 l5 ]/ s6 Y; u0 ~6 c/ K$ a
& v# b7 k- S1 S( R! N6 n圖6顯示了三種預(yù)定義的路由模式:
7 L/ f$ }* h# X5 T% r類型I:平行的南北和東西連接類型II:交叉對角線連接類型III:只有南北連接
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圖7展示了不同架構(gòu)在這些特定場景中的表現(xiàn)。值得注意的是,RCSL在類型I模式中表現(xiàn)出色,而方形tile在類型III模式中表現(xiàn)出人意料的好。: p: d# Y4 h% C: A0 P, U
3 Z9 y6 V) y: }+ q, @損壞對Mesh性能的影響+ }% p4 [4 F; a
在實際應(yīng)用中,PPICs可能會受到制造缺陷或運(yùn)行過程中的損壞。了解這些問題如何影響路由能力對設(shè)計穩(wěn)健系統(tǒng)非常重要。6 Q- G7 T2 e. i' b
$ c+ m) |" m8 M* L考慮了三種主要的耦合器故障類型:完全故障(100%衰減)卡在交叉模式卡在直通模式
) K: p. V$ A% h( c6 E, |[/ol]
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0 ~2 t: R- m9 v* }2 k/ d% }圖8說明了這些不同的故障模式與正常功能的耦合器的比較。: S5 Y( [) g" \& R1 i* G- j
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這些故障對路由性能的影響差異很大:; b1 \6 ]8 J" a* |; L
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圖9顯示了不同類型和程度的損壞如何影響路由能力。5 }6 Q' B4 Q: s% e
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一些關(guān)鍵觀察:
" W h9 m }( V5 m6 _卡在交叉模式的耦合器(圖14a)在約50%的耦合器受影響之前影響相對較小。卡在直通模式的耦合器(圖14b)導(dǎo)致性能更快下降。完全耦合器故障(圖14c)影響最嚴(yán)重,僅15%的故障耦合器就導(dǎo)致50%的路由能力損失。
1 K; L; \3 Z. }% ~+ O0 A# u4 F( B, `
3 m. H* r3 b1 n( A. s6 U- c0 J可靠性設(shè)計
- z- X% P* L4 p0 Q5 p: C4 B了解損壞的影響使設(shè)計者能夠在其PPIC設(shè)計中加入適當(dāng)?shù)娜哂唷@,如果已知制造過程的良率為90%(10%的耦合器不完美),其中一半的不完美導(dǎo)致完全故障,另一半卡在交叉模式,則應(yīng)將mesh大小增加約25%以保持所需的性能水平。" Y% i/ u" Q/ ~' v" k# v/ S
% e3 t3 x/ s# M! P7 O
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結(jié)論! w2 c) R \0 w9 t+ H$ p8 h
本文提供了可編程光電子集成線路中路由的概述,重點關(guān)注mesh架構(gòu)對性能的影響。主要要點包括:
# @7 O; v6 J5 r, s' Q1 ^( ]1 |六邊形tile mesh提供了最佳的整體路由能力,尤其是對于復(fù)雜的路由場景。新型的環(huán)連接直線(RCSL)架構(gòu)在需要較短路徑長度的場景中顯示出潛力,特別是當(dāng)mesh預(yù)期不會被密集使用時。不同類型的耦合器故障對mesh性能的影響各不相同,完全故障的影響最為嚴(yán)重。設(shè)計者可以利用這些信息選擇適當(dāng)?shù)募軜?gòu),并根據(jù)預(yù)期的制造良率和故障模式加入必要的冗余。
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6 S3 N! G8 R7 |( `9 c- m隨著PPICs的不斷發(fā)展,理解路由和mesh設(shè)計的這些基本方面對于為廣泛的應(yīng)用開發(fā)高效可靠的光電子系統(tǒng)將非常重要。6 I4 Y! [6 Q$ _$ G- L0 C/ b K
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( d$ \; x; {) ~0 p2 D& p參考文獻(xiàn)( l0 V% M% F0 u x* Q
[1] F. Vanden Kerchove, D. Colle, W. Tavernier, W. Bogaerts and M. Pickavet, "Routing impact of architecture and damage in programmable photonic meshes," Photonics Research, vol. 12, no. 9, pp. 1999-2011, Sep. 2024.8 ~% U9 w d+ K! J, x% ]0 U
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; D% f/ |, m; F5 Y4 G' D轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!# W. S, {" x! L/ b) h- H
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深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。% O: y$ s0 N' `, Y- s/ c' i6 B
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