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DDR設(shè)計需要背鉆嗎

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發(fā)表于 2018-8-10 14:40:17 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
作者:一博科技
; w3 R+ R( S# X1 S+ l

& s, S' Q  k# o1 s2 v
背鉆,相信從事pcb設(shè)計或加工的朋友來說不會陌生。我們知道,這個工藝現(xiàn)在已經(jīng)比較廣泛應(yīng)用在10G以上的高速串行通道設(shè)計中了,它的作用主要是解決過孔stub較長導(dǎo)致的高頻能量急劇衰減的問題,越小的過孔stub,急劇衰減的頻段越高,因此我們在高速設(shè)計會著重考慮它。我們也可以通過2維或者3維對過孔的仿真,得到stub和回?fù)p插損曲線的關(guān)系,例如下圖所示:
, ?. W- W" o* z, o4 H
可以看到,隨著過孔stub越來越長,尖峰諧振點出現(xiàn)的頻段會逐漸向低頻移動,也就是說會逐漸影響到更低頻段能量的衰減。當(dāng)然對于點對點的高速串行信號來說,我們比較容易去下結(jié)論要不要背鉆,現(xiàn)在隨著我們的DDR并行信號的速率也越來越高之后,像目前通用的DDR4的速率是2400Mbps,那我們需要背鉆嗎?
為此,本人也做了一個簡單的仿真(針對地址信號的仿真)來看看到底差異有多大?
一個簡單的fly_by拓?fù)涞脑O(shè)計如下:

( X4 D& R7 w5 V2 ~9 T! R, z6 \; s
如果地址信號走得靠近表層的話,的確,換層過孔帶來的stub可以比較長。
" i1 O' P% [* g' P, B. d6 E& _

, ]* ~  D. F' u( W* g
我們對這個信號拓?fù)溥M(jìn)行不同過孔stub長度(從0mil到120mil的stub)的掃描仿真,得到的波形結(jié)果(第一個顆粒)會是這樣:
2 b4 q4 ^0 ^5 n1 B0 V' u
我們直觀的看到,有差異的地方主要在上下電平振蕩的位置,我們放大一點看下,發(fā)現(xiàn)會影響大概25mV的裕量。
* b& C5 @! z/ c) Y) a  D

  o9 @/ ]/ l9 i4 x7 `- }從眼圖上看,也大概能看到些變化,說明stub還是會對信號質(zhì)量產(chǎn)生一定的影響。
: c) L( X2 n! y; u
8 c- ]# j% H6 ^6 m) b
那么對于速率更高的數(shù)據(jù)信號而言,情況又是怎么樣的呢?本人還是以仿真數(shù)據(jù)來說明吧,不同過孔stub的結(jié)果如下:# c: A# D% p8 M' U% H( N

" f& h6 x' c. `+ n! V& O
從眼圖來看,信號的幅值似乎差異不大,差異主要在于上升(下降)沿這里。從波形上升/下降沿看可以看到200mil的stub和沒有stub的差異主要有30ps左右。

! P' r( n% o, \9 a+ w* Y" l
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發(fā)表于 2018-8-11 07:01:43 | 只看該作者
下載了,.....
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發(fā)表于 2018-8-11 15:29:02 | 只看該作者
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發(fā)表于 2018-8-11 17:49:47 | 只看該作者
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1 U: q1 y) [3 L! X7 e) p
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0 t6 N, v7 j  }8 |' E  V1 u
8 @# h4 E1 X2 k! `+ O; K2 t

; o) z; |2 J' t& G) A$ q% r
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發(fā)表于 2018-12-11 20:35:04 | 只看該作者
資料很好,值得借鑒
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發(fā)表于 2018-12-12 12:29:01 | 只看該作者
正好需要,感謝分享 贊...
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發(fā)表于 2018-12-12 21:10:29 | 只看該作者
正在努力學(xué)習(xí)中,希望能幫到我 感謝
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發(fā)表于 2018-12-14 17:58:11 | 只看該作者
不知道是不是我要的 先下載了
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發(fā)表于 2018-12-15 23:06:12 | 只看該作者
支持~~很不錯的資料,回復(fù)一個獲取下載幣
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