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先進(jìn)封裝簡介6 c8 ]9 c# W3 A) U; S0 C2 P8 t
先進(jìn)封裝技術(shù)已成為半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的主要推動力之一,為突破傳統(tǒng)摩爾定律限制提供了新的技術(shù)手段。本文探討先進(jìn)封裝的核心概念、技術(shù)和發(fā)展趨勢[1]。$ U. \ u( T0 u6 l
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圖1展示了硅通孔(TSV)技術(shù)的示意圖和實(shí)物照片,顯示了垂直互聯(lián)結(jié)構(gòu)。
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% Y) V$ M O" _$ Q0 F3 ^+ R; fXY平面和Z軸延伸的關(guān)鍵技術(shù)
3 k% Q/ h2 Q: N M/ V現(xiàn)代先進(jìn)封裝可分為兩種主要方式:XY平面延伸和Z軸延伸。XY平面延伸主要利用重布線層(RDL)技術(shù)進(jìn)行信號布線,而Z軸延伸則采用硅通孔(TSV)技術(shù)實(shí)現(xiàn)垂直連接。% F; o/ `. d) M2 X
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+ y: u+ n8 _ d$ T: \1 u( V O圖2展示了扇入和扇出重布線的示意圖,說明了重新分布芯片連接的不同方法。
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扇出技術(shù)及演進(jìn)
6 R/ T( ^% O: k$ Z5 I* O扇出晶圓級封裝(FOWLP)是先進(jìn)封裝的重要發(fā)展之一。該技術(shù)將重布線層擴(kuò)展到芯片區(qū)域之外,在保持緊湊外形的同時增加輸入/輸出連接數(shù)量。該技術(shù)已發(fā)展出集成扇出(InFO)和面板級扇出封裝(FOPLP)等變體。
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圖3對比了FIWLP、FOWLP和InFO技術(shù),展示其結(jié)構(gòu)差異和演進(jìn)過程。
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TSV集成與實(shí)現(xiàn). [3 t4 X0 z4 s. H
TSV技術(shù)實(shí)現(xiàn)了先進(jìn)封裝中的真正3D集成。TSV可以采用3D或2.5D配置實(shí)現(xiàn),每種方法都具有不同應(yīng)用場景的優(yōu)勢。
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4 u9 H4 r! U$ V; R5 Y; Z圖4展示了3D TSV和2.5D TSV的示意圖,說明這兩種方法的根本區(qū)別。
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8 e1 Y! H3 U" T; r4 } W行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者及解決方案* d) k0 E% C1 `
主要半導(dǎo)體公司都開發(fā)了自己的先進(jìn)封裝技術(shù)。臺積電的晶圓級芯片堆疊(CoWoS)技術(shù)在高性能計(jì)算應(yīng)用中得到廣泛應(yīng)用。
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圖5顯示了CoWoS結(jié)構(gòu)示意圖,展示了芯片在硅中介層和基板上的集成方式。3 T6 V0 g- z# k
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先進(jìn)內(nèi)存集成
$ S; {4 R/ r: J; k+ A" {9 T6 J) x; A高帶寬內(nèi)存(HBM)是先進(jìn)封裝領(lǐng)域的重要突破,特別適用于圖形處理和高性能計(jì)算應(yīng)用。HBM將3D堆疊與高速接口相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了極高的內(nèi)存帶寬。6 X8 _" u; V. m2 _6 P2 |/ G
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; h8 M2 ~- l/ J, b" X5 ], N7 u: M& i圖6展示了HBM技術(shù)示意圖和實(shí)物剖面,顯示了堆疊內(nèi)存結(jié)構(gòu)和互連方式。( N. J8 J `1 \, U9 K
* y6 T9 N3 T! g! T8 s& O: G# t! @英特爾的先進(jìn)封裝方案9 I5 Q& |5 ]2 V$ h8 `
英特爾推出了嵌入式多芯片互連橋接(EMIB)和Foveros等創(chuàng)新技術(shù)。這些方法提供了實(shí)現(xiàn)高密度集成的不同途徑。/ L1 k* A5 s, N, d# y
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圖7對比了EMIB、Foveros和CO-EMIB的技術(shù)示意圖和產(chǎn)品剖面,展示了英特爾各種先進(jìn)封裝解決方案。
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+ p9 M8 z- l, _. j, X. X7 T先進(jìn)封裝的基本要素
' s3 A, k5 s5 I" d7 h# p先進(jìn)封裝的基礎(chǔ)建立在四個關(guān)鍵要素之上:RDL、TSV、凸點(diǎn)和晶圓。這些要素共同支持各種集成方法和技術(shù)。- R- b# r# E: y4 e3 t6 n6 w
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; c% x& B, z% H) Q& P- ?' R圖8展示了先進(jìn)封裝的四個要素:RDL、TSV、凸點(diǎn)和晶圓,說明各要素間的相互關(guān)系。8 T: N% ~" C, L9 A# q% Y: H+ t
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技術(shù)趨勢與演進(jìn)
2 M: l. p: r1 G. T, y) o, m, {隨著技術(shù)進(jìn)步,這些要素出現(xiàn)了新的發(fā)展趨勢,特別是凸點(diǎn)技術(shù)逐漸向更細(xì)間距發(fā)展,在硅對硅接口中可能最終被淘汰。1 u. i: d* j4 |
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3 e, c1 G' R. t# s6 n圖9顯示了凸點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展趨勢,描述了向更細(xì)間距演進(jìn)并最終在硅接口中消失的過程。
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$ i1 \3 _ e# i( W0 `: J/ I- r先進(jìn)封裝與SiP的關(guān)系
; ]4 s$ `( |, {0 i" Q) c先進(jìn)封裝與系統(tǒng)級封裝(SiP)的關(guān)系復(fù)雜,既有重疊又有區(qū)別。雖然所有先進(jìn)封裝解決方案都旨在提高系統(tǒng)密度和性能,但采用的方法和技術(shù)可能不同。
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圖10描述了HDAP和SiP的關(guān)系,展示重疊區(qū)域和獨(dú)特特征。
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" O4 u" J% ] H) F) E) y0 F1 s$ U未來展望與行業(yè)影響- \6 M* z$ y% F3 t7 O+ B
先進(jìn)封裝技術(shù)持續(xù)發(fā)展,新技術(shù)不斷涌現(xiàn),以滿足現(xiàn)代電子產(chǎn)品日益增長的需求。從移動設(shè)備到高性能計(jì)算,先進(jìn)封裝在推動下一代電子系統(tǒng)發(fā)展中發(fā)揮重要作用。' t# Y8 D9 v2 q
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近年來,行業(yè)出現(xiàn)了許多重要創(chuàng)新,如臺積電的SoIC和三星的X-Cube等技術(shù),推動了先進(jìn)封裝技術(shù)的發(fā)展。這些進(jìn)展表明,先進(jìn)封裝將繼續(xù)推動半導(dǎo)體創(chuàng)新,提供提升系統(tǒng)性能、降低功耗的新方法。! B# b1 o- Z# f7 ?6 ], u* d/ a
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先進(jìn)封裝代表了半導(dǎo)體技術(shù)從傳統(tǒng)的"重外部"封裝轉(zhuǎn)向"重內(nèi)部"集成。轉(zhuǎn)變促進(jìn)了芯片設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)和封裝團(tuán)隊(duì)的緊密合作,為現(xiàn)代電子系統(tǒng)提供了更優(yōu)化、更高效的解決方案。3 ?- N; [9 G4 ?
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參考文獻(xiàn)' j, i1 f# a( ^1 ?' I
[1] S. Li, "SiP and Advanced Packaging Technology," in MicroSystem Based on SiP Technology. Beijing, China: Publishing House of Electronics Industry, 2022, ch. 5, pp. 117-154.0 h" }' T' @6 H
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