電子產(chǎn)業(yè)一站式賦能平臺

PCB聯(lián)盟網(wǎng)

搜索
查看: 26|回復(fù): 0
收起左側(cè)

現(xiàn)代半導(dǎo)體先進封裝技術(shù)

[復(fù)制鏈接]

587

主題

587

帖子

4743

積分

四級會員

Rank: 4

積分
4743
跳轉(zhuǎn)到指定樓層
樓主
發(fā)表于 4 天前 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
先進封裝簡介  r1 y9 i3 K$ s) G
先進封裝技術(shù)已成為半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的主要推動力之一,為突破傳統(tǒng)摩爾定律限制提供了新的技術(shù)手段。本文探討先進封裝的核心概念、技術(shù)和發(fā)展趨勢[1]。* I6 g5 n# {" h$ f4 e0 u, B8 S* a

$ X. P) Q( v$ N, J  q5 E6 j+ ~  I圖1展示了硅通孔(TSV)技術(shù)的示意圖和實物照片,顯示了垂直互聯(lián)結(jié)構(gòu)。! }# |" ]% E- o" z9 M
$ e- [4 j6 I6 @  M) N) H0 t
XY平面和Z軸延伸的關(guān)鍵技術(shù)6 ^, i& V- {! y, m/ p4 @
現(xiàn)代先進封裝可分為兩種主要方式:XY平面延伸Z軸延伸。XY平面延伸主要利用重布線層(RDL)技術(shù)進行信號布線,而Z軸延伸則采用硅通孔(TSV)技術(shù)實現(xiàn)垂直連接。
, g6 M* X7 C" j$ q, y8 i
. _5 E& X, N) _# s1 r* P6 \* M圖2展示了扇入和扇出重布線的示意圖,說明了重新分布芯片連接的不同方法。
: k) `% L9 w0 _0 o) c  H) Q! `3 o4 E5 T7 X. ?. h2 S6 x
扇出技術(shù)及演進
# \" L- r- `! W* s扇出晶圓級封裝(FOWLP)是先進封裝的重要發(fā)展之一。該技術(shù)將重布線層擴展到芯片區(qū)域之外,在保持緊湊外形的同時增加輸入/輸出連接數(shù)量。該技術(shù)已發(fā)展出集成扇出(InFO)面板級扇出封裝(FOPLP)等變體。
& J; q  h6 \/ ]5 s : y* r: I4 ?$ G+ @( u, w6 ?9 A
圖3對比了FIWLP、FOWLP和InFO技術(shù),展示其結(jié)構(gòu)差異和演進過程。/ c: a% o/ }) i5 y! ?

/ r* D; c; O! v3 Q! R, [5 R7 ^7 _3 MTSV集成與實現(xiàn)  t  M8 Q5 q6 |2 S
TSV技術(shù)實現(xiàn)了先進封裝中的真正3D集成。TSV可以采用3D或2.5D配置實現(xiàn),每種方法都具有不同應(yīng)用場景的優(yōu)勢。
  H5 @, G: r1 ^2 f
! e- a' i: o$ {6 O圖4展示了3D TSV和2.5D TSV的示意圖,說明這兩種方法的根本區(qū)別。
  c7 G# N5 T, T! V7 L+ T* C! C8 I& P" `* M( s$ ^" N0 @, B* |
行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者及解決方案
6 d1 N' U) `; P6 B8 B5 S( T( q主要半導(dǎo)體公司都開發(fā)了自己的先進封裝技術(shù)。臺積電的晶圓級芯片堆疊(CoWoS)技術(shù)在高性能計算應(yīng)用中得到廣泛應(yīng)用。) w( N5 F( p  `- F: G! Y

  {* p  [% W- P) ~. R/ @' v7 j圖5顯示了CoWoS結(jié)構(gòu)示意圖,展示了芯片在硅中介層和基板上的集成方式。0 ^% [; D# _8 ^% a

/ Q& g7 n% w# _! @9 b) d$ Y先進內(nèi)存集成  Y0 v( ]1 T/ u. Y4 n% k7 H
高帶寬內(nèi)存(HBM)是先進封裝領(lǐng)域的重要突破,特別適用于圖形處理和高性能計算應(yīng)用。HBM將3D堆疊與高速接口相結(jié)合,實現(xiàn)了極高的內(nèi)存帶寬。# l/ R8 L" W  D' `3 k7 d
# p& i7 I" E5 T5 q* P, e$ r1 f2 c
圖6展示了HBM技術(shù)示意圖和實物剖面,顯示了堆疊內(nèi)存結(jié)構(gòu)和互連方式。
. J" U) z4 T7 @* g( \0 f: L8 M0 ~  Y  ~- ^) n! K$ ?0 P
英特爾的先進封裝方案
' H8 _. T) o( H, ~3 e! X英特爾推出了嵌入式多芯片互連橋接(EMIB)Foveros等創(chuàng)新技術(shù)。這些方法提供了實現(xiàn)高密度集成的不同途徑。
" E- p8 s6 ~4 ` , l+ x, U: ?3 M) P2 t- V' v: i
圖7對比了EMIB、Foveros和CO-EMIB的技術(shù)示意圖和產(chǎn)品剖面,展示了英特爾各種先進封裝解決方案。; ~" P1 w1 d. W4 i5 Y8 F. i* N
7 w" V' j1 B, K1 b- ^3 k
先進封裝的基本要素" u6 t: g/ f  P$ X
先進封裝的基礎(chǔ)建立在四個關(guān)鍵要素之上:RDL、TSV、凸點和晶圓。這些要素共同支持各種集成方法和技術(shù)。
: }% c) R1 j6 w$ L7 a 9 t: w% E+ J. v" i3 N' _  C
圖8展示了先進封裝的四個要素:RDL、TSV、凸點和晶圓,說明各要素間的相互關(guān)系。
+ k7 r9 W7 ]7 g8 w2 M5 O- s6 O: T7 R- q  Q
技術(shù)趨勢與演進
7 L& [$ J- a; {, n; i隨著技術(shù)進步,這些要素出現(xiàn)了新的發(fā)展趨勢,特別是凸點技術(shù)逐漸向更細間距發(fā)展,在硅對硅接口中可能最終被淘汰。0 Y" N% k: X0 c7 J- {8 E+ g

0 W& Z5 H' K3 i( x' b圖9顯示了凸點技術(shù)的發(fā)展趨勢,描述了向更細間距演進并最終在硅接口中消失的過程。
; P( c6 u6 @" ~4 `) E8 m/ h; \$ D) ?! j8 r
先進封裝與SiP的關(guān)系
1 v8 h( l6 j3 e' R" f2 ?先進封裝與系統(tǒng)級封裝(SiP)的關(guān)系復(fù)雜,既有重疊又有區(qū)別。雖然所有先進封裝解決方案都旨在提高系統(tǒng)密度和性能,但采用的方法和技術(shù)可能不同。
" c2 `  t( s  B3 r
4 b* c! G0 g  q; x) G2 {% s9 }圖10描述了HDAP和SiP的關(guān)系,展示重疊區(qū)域和獨特特征。
  D# n# n2 m3 q  |2 ~8 \: h' `+ k8 Z6 H9 o! n0 b
未來展望與行業(yè)影響
2 ?) g5 k* R  R% n% X7 {% a$ r1 Y先進封裝技術(shù)持續(xù)發(fā)展,新技術(shù)不斷涌現(xiàn),以滿足現(xiàn)代電子產(chǎn)品日益增長的需求。從移動設(shè)備到高性能計算,先進封裝在推動下一代電子系統(tǒng)發(fā)展中發(fā)揮重要作用。
. y# t4 z. G0 q: @4 L; U
: O2 G& V; _# Q近年來,行業(yè)出現(xiàn)了許多重要創(chuàng)新,如臺積電的SoIC和三星的X-Cube等技術(shù),推動了先進封裝技術(shù)的發(fā)展。這些進展表明,先進封裝將繼續(xù)推動半導(dǎo)體創(chuàng)新,提供提升系統(tǒng)性能、降低功耗的新方法。( v6 A1 I, K9 F
* H/ v; u: j7 n4 x6 _
先進封裝代表了半導(dǎo)體技術(shù)從傳統(tǒng)的"重外部"封裝轉(zhuǎn)向"重內(nèi)部"集成。轉(zhuǎn)變促進了芯片設(shè)計團隊和封裝團隊的緊密合作,為現(xiàn)代電子系統(tǒng)提供了更優(yōu)化、更高效的解決方案。
3 G$ V+ E! x1 D* e: K2 I# B
8 ]2 K. Z6 a# D% N8 \: _0 C參考文獻& |3 z% h' v0 Y& D' F2 Z( p
[1] S. Li, "SiP and Advanced Packaging Technology," in MicroSystem Based on SiP Technology. Beijing, China: Publishing House of Electronics Industry, 2022, ch. 5, pp. 117-154.
4 g$ ^! I& w8 W5 P& Q  g+ I1 B9 d  w! d3 h: @* v
END
6 j) i/ [7 ~$ |
$ v( p( ]6 h7 I  b8 I- N) i( R
5 y/ I  E2 L: U+ n; s
軟件申請我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請體驗免費版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。7 t$ I" X  E# G7 b; m! X2 F% F" ]
點擊左下角"閱讀原文"馬上申請
7 j/ a  G& ~; t( C, i: Z1 H) u5 m. Z& i  _
歡迎轉(zhuǎn)載
* b, t+ C$ }+ n  E* ?
; R# K0 I+ Q% q轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!+ \2 h; l) y' c, m

; W: @4 ^- E, o0 m1 H4 n6 e+ x) i# n2 M' j4 B+ {# y, z
+ Y6 C5 i) f" b. e

* }+ H* X0 z2 c) c3 n
5 V1 H3 g% C: S關(guān)注我們* ]1 v$ e- D' X/ R! }
0 j* ]- v0 R% I# `! w3 Y; d' P0 s

6 h) s$ Z2 l) a 7 e+ Z4 L- `( R9 v

) a% J$ Y2 h0 O: n6 }4 M; e
/ H  e  ]8 X  y
& n5 ~) U1 q+ t
) T# H8 F( ]4 E& c$ S2 g4 ^
                      5 |2 Y% c; ^5 i1 r1 r- p
  Y' H4 r+ g+ g) y+ y
( R3 u& q4 h2 D
$ S$ U$ X" R( d+ h% L0 P8 M! h
關(guān)于我們:/ @. B4 j* V1 }5 O3 ]
深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。! u9 p4 O5 Z- Z3 F: C, @

: Y; w2 j8 V' x2 w: ~) ?http://www.latitudeda.com/2 m( v! C+ H) K" c. `- G( n# `
(點擊上方名片關(guān)注我們,發(fā)現(xiàn)更多精彩內(nèi)容)
回復(fù)

使用道具 舉報

發(fā)表回復(fù)

您需要登錄后才可以回帖 登錄 | 立即注冊

本版積分規(guī)則


聯(lián)系客服 關(guān)注微信 下載APP 返回頂部 返回列表