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先進封裝簡介 r1 y9 i3 K$ s) G
先進封裝技術(shù)已成為半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的主要推動力之一,為突破傳統(tǒng)摩爾定律限制提供了新的技術(shù)手段。本文探討先進封裝的核心概念、技術(shù)和發(fā)展趨勢[1]。* I6 g5 n# {" h$ f4 e0 u, B8 S* a
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$ X. P) Q( v$ N, J q5 E6 j+ ~ I圖1展示了硅通孔(TSV)技術(shù)的示意圖和實物照片,顯示了垂直互聯(lián)結(jié)構(gòu)。! }# |" ]% E- o" z9 M
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XY平面和Z軸延伸的關(guān)鍵技術(shù)6 ^, i& V- {! y, m/ p4 @
現(xiàn)代先進封裝可分為兩種主要方式:XY平面延伸和Z軸延伸。XY平面延伸主要利用重布線層(RDL)技術(shù)進行信號布線,而Z軸延伸則采用硅通孔(TSV)技術(shù)實現(xiàn)垂直連接。
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. _5 E& X, N) _# s1 r* P6 \* M圖2展示了扇入和扇出重布線的示意圖,說明了重新分布芯片連接的不同方法。
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扇出技術(shù)及演進
# \" L- r- `! W* s扇出晶圓級封裝(FOWLP)是先進封裝的重要發(fā)展之一。該技術(shù)將重布線層擴展到芯片區(qū)域之外,在保持緊湊外形的同時增加輸入/輸出連接數(shù)量。該技術(shù)已發(fā)展出集成扇出(InFO)和面板級扇出封裝(FOPLP)等變體。
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圖3對比了FIWLP、FOWLP和InFO技術(shù),展示其結(jié)構(gòu)差異和演進過程。/ c: a% o/ }) i5 y! ?
/ r* D; c; O! v3 Q! R, [5 R7 ^7 _3 MTSV集成與實現(xiàn) t M8 Q5 q6 |2 S
TSV技術(shù)實現(xiàn)了先進封裝中的真正3D集成。TSV可以采用3D或2.5D配置實現(xiàn),每種方法都具有不同應(yīng)用場景的優(yōu)勢。
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! e- a' i: o$ {6 O圖4展示了3D TSV和2.5D TSV的示意圖,說明這兩種方法的根本區(qū)別。
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行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者及解決方案
6 d1 N' U) `; P6 B8 B5 S( T( q主要半導(dǎo)體公司都開發(fā)了自己的先進封裝技術(shù)。臺積電的晶圓級芯片堆疊(CoWoS)技術(shù)在高性能計算應(yīng)用中得到廣泛應(yīng)用。) w( N5 F( p `- F: G! Y
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{* p [% W- P) ~. R/ @' v7 j圖5顯示了CoWoS結(jié)構(gòu)示意圖,展示了芯片在硅中介層和基板上的集成方式。0 ^% [; D# _8 ^% a
/ Q& g7 n% w# _! @9 b) d$ Y先進內(nèi)存集成 Y0 v( ]1 T/ u. Y4 n% k7 H
高帶寬內(nèi)存(HBM)是先進封裝領(lǐng)域的重要突破,特別適用于圖形處理和高性能計算應(yīng)用。HBM將3D堆疊與高速接口相結(jié)合,實現(xiàn)了極高的內(nèi)存帶寬。# l/ R8 L" W D' `3 k7 d
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圖6展示了HBM技術(shù)示意圖和實物剖面,顯示了堆疊內(nèi)存結(jié)構(gòu)和互連方式。
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英特爾的先進封裝方案
' H8 _. T) o( H, ~3 e! X英特爾推出了嵌入式多芯片互連橋接(EMIB)和Foveros等創(chuàng)新技術(shù)。這些方法提供了實現(xiàn)高密度集成的不同途徑。
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圖7對比了EMIB、Foveros和CO-EMIB的技術(shù)示意圖和產(chǎn)品剖面,展示了英特爾各種先進封裝解決方案。; ~" P1 w1 d. W4 i5 Y8 F. i* N
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先進封裝的基本要素" u6 t: g/ f P$ X
先進封裝的基礎(chǔ)建立在四個關(guān)鍵要素之上:RDL、TSV、凸點和晶圓。這些要素共同支持各種集成方法和技術(shù)。
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圖8展示了先進封裝的四個要素:RDL、TSV、凸點和晶圓,說明各要素間的相互關(guān)系。
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技術(shù)趨勢與演進
7 L& [$ J- a; {, n; i隨著技術(shù)進步,這些要素出現(xiàn)了新的發(fā)展趨勢,特別是凸點技術(shù)逐漸向更細間距發(fā)展,在硅對硅接口中可能最終被淘汰。0 Y" N% k: X0 c7 J- {8 E+ g
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0 W& Z5 H' K3 i( x' b圖9顯示了凸點技術(shù)的發(fā)展趨勢,描述了向更細間距演進并最終在硅接口中消失的過程。
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先進封裝與SiP的關(guān)系
1 v8 h( l6 j3 e' R" f2 ?先進封裝與系統(tǒng)級封裝(SiP)的關(guān)系復(fù)雜,既有重疊又有區(qū)別。雖然所有先進封裝解決方案都旨在提高系統(tǒng)密度和性能,但采用的方法和技術(shù)可能不同。
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4 b* c! G0 g q; x) G2 {% s9 }圖10描述了HDAP和SiP的關(guān)系,展示重疊區(qū)域和獨特特征。
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未來展望與行業(yè)影響
2 ?) g5 k* R R% n% X7 {% a$ r1 Y先進封裝技術(shù)持續(xù)發(fā)展,新技術(shù)不斷涌現(xiàn),以滿足現(xiàn)代電子產(chǎn)品日益增長的需求。從移動設(shè)備到高性能計算,先進封裝在推動下一代電子系統(tǒng)發(fā)展中發(fā)揮重要作用。
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: O2 G& V; _# Q近年來,行業(yè)出現(xiàn)了許多重要創(chuàng)新,如臺積電的SoIC和三星的X-Cube等技術(shù),推動了先進封裝技術(shù)的發(fā)展。這些進展表明,先進封裝將繼續(xù)推動半導(dǎo)體創(chuàng)新,提供提升系統(tǒng)性能、降低功耗的新方法。( v6 A1 I, K9 F
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先進封裝代表了半導(dǎo)體技術(shù)從傳統(tǒng)的"重外部"封裝轉(zhuǎn)向"重內(nèi)部"集成。轉(zhuǎn)變促進了芯片設(shè)計團隊和封裝團隊的緊密合作,為現(xiàn)代電子系統(tǒng)提供了更優(yōu)化、更高效的解決方案。
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8 ]2 K. Z6 a# D% N8 \: _0 C參考文獻& |3 z% h' v0 Y& D' F2 Z( p
[1] S. Li, "SiP and Advanced Packaging Technology," in MicroSystem Based on SiP Technology. Beijing, China: Publishing House of Electronics Industry, 2022, ch. 5, pp. 117-154.
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