電子產(chǎn)業(yè)一站式賦能平臺(tái)

PCB聯(lián)盟網(wǎng)

搜索
查看: 16|回復(fù): 0
收起左側(cè)

Hot Chips 2024 | 數(shù)據(jù)中心固態(tài)冷卻技術(shù)應(yīng)對(duì)爆炸性增長(zhǎng)的熱管理創(chuàng)新

[復(fù)制鏈接]

493

主題

493

帖子

3686

積分

四級(jí)會(huì)員

Rank: 4

積分
3686
跳轉(zhuǎn)到指定樓層
樓主
發(fā)表于 昨天 08:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言
" L1 r/ C  X: a" I+ Z- g7 @5 c' ?高性能計(jì)算,尤其是人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)領(lǐng)域的飛速發(fā)展,導(dǎo)致數(shù)據(jù)中心的功率密度和熱量產(chǎn)生顯著增加。本文探討現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心面臨的熱管理難題,并介紹創(chuàng)新解決方案:固態(tài)冷卻技術(shù)[1]。
) w. {! ?9 h" n; _5 s! l. ?! |
3 s6 G& I% c7 s7 s% q熱管理難題
4 N6 f( m9 |1 l數(shù)據(jù)中心正經(jīng)歷指數(shù)級(jí)增長(zhǎng),預(yù)計(jì)全球市場(chǎng)規(guī)模將從2024年的3018億美元增長(zhǎng)到2030年的6224億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率為10%。這種增長(zhǎng)由帶寬、計(jì)算密度和數(shù)據(jù)管理能力的不斷提高所驅(qū)動(dòng)。然而,這些進(jìn)步也帶來了新的挑戰(zhàn),特別是在熱管理方面。
/ v) D' K9 z! h+ _ 3 `  x, }& I, n' O/ o: C# E
圖1展示2024年到2030年數(shù)據(jù)中心市場(chǎng)規(guī)模的預(yù)計(jì)增長(zhǎng),突顯了該行業(yè)的爆炸性增長(zhǎng)。
( W) l& e  j, B* E0 V; b: j
1 x8 ^% k; U* b( [隨著計(jì)算能力的提升,處理器產(chǎn)生的熱量也隨之增加。當(dāng)前一代機(jī)架通常消耗約40千瓦,而下一代系統(tǒng)預(yù)計(jì)每個(gè)機(jī)架將需要高達(dá)120千瓦。這種三倍的功耗增加帶來了重大的冷卻挑戰(zhàn),因?yàn)榧词故悄壳白詈玫慕鉀Q方案,考慮到冷卻限制,也只能管理約66千瓦每機(jī)架。$ U% R9 \9 z* N# [
# P. C7 @# s8 E
有效的熱管理對(duì)數(shù)據(jù)中心至關(guān)重要。熱管理約占數(shù)據(jù)中心功耗的40%,是這些設(shè)施總擁有成本(TCO)的關(guān)鍵因素。
% s0 c% M/ z6 p+ ~: a/ `4 } ' l2 l6 |1 \6 C' W/ \& m
圖2說明了數(shù)據(jù)中心功耗的細(xì)分,強(qiáng)調(diào)了熱管理所占的顯著部分。
1 O: l8 l; t; I2 b$ z: t6 C0 U4 ?& n% ~1 U$ U
傳統(tǒng)冷卻解決方案的局限性
7 T  m- L! I! \+ i1 ?9 C! }6 ~傳統(tǒng)冷卻方法難以跟上現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心不斷增加的熱流密度。被動(dòng)冷卻技術(shù),如散熱器和熱管,本質(zhì)上受到環(huán)境溫度的限制,對(duì)高性能計(jì)算需求往往不足。主動(dòng)冷卻解決方案,如蒸汽壓縮系統(tǒng),雖然有效但通常缺乏設(shè)備級(jí)所需的精確度,并可能消耗過多電力。2 W, W1 o8 {& J. H7 C: x9 m
. M1 b! F: ?& H2 N& p

) i4 Q5 F) {) s! T7 h, c8 e" n. i圖3描述了傳統(tǒng)冷卻解決方案,包括被動(dòng)和主動(dòng)方法,強(qiáng)調(diào)了這些方法在解決現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心冷卻需求方面的局限性。
! Y& ~+ X% {: e
1 g; i, j; q# R8 K8 d隨著熱設(shè)計(jì)功耗(TDP)值的增加,業(yè)界逐漸轉(zhuǎn)向液體冷卻。然而,這種轉(zhuǎn)變也帶來了自身的一系列挑戰(zhàn),包括基礎(chǔ)設(shè)施改造和潛在的可靠性問題。
/ a4 k" H  z8 g! o$ C- N$ W+ m9 O. y; @! N9 C# W. @/ y. f) m* L
5 |6 U  y  o" m9 Q8 i9 J9 v! v
圖4展示了XPU功率與冷卻方法之間的關(guān)系,指出了高TDP值向液體冷卻轉(zhuǎn)變的趨勢(shì)。
" R+ x; J. |2 A+ ^& |9 L; _/ x  h! o
固態(tài)冷卻技術(shù)簡(jiǎn)介
; a$ c" s/ z: _. q0 S9 _% K固態(tài)冷卻技術(shù)作為一種有前景的解決方案,可以應(yīng)對(duì)數(shù)據(jù)中心面臨的熱管理挑戰(zhàn)。這種創(chuàng)新技術(shù)彌合了被動(dòng)和主動(dòng)冷卻方法之間的差距,為熱管理提供了動(dòng)態(tài)方法。9 d6 {: |$ \, ?% w: \$ y3 P
4 b. N0 S- ^/ s  O8 f, n- q& H
固態(tài)冷卻的主要優(yōu)勢(shì)包括:
  • 動(dòng)態(tài)響應(yīng):系統(tǒng)可以根據(jù)實(shí)時(shí)熱需求,在被動(dòng)和主動(dòng)冷卻模式之間無縫切換。
  • 性能提升:通過防止熱降頻,固態(tài)冷卻允許處理器長(zhǎng)時(shí)間保持峰值性能。
  • 能源效率:能夠在可能的情況下以被動(dòng)模式運(yùn)行,僅在必要時(shí)啟動(dòng)主動(dòng)冷卻,從而實(shí)現(xiàn)整體節(jié)能。
  • 靈活性:固態(tài)冷卻解決方案可以集成到現(xiàn)有的數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施中,減少資本支出和部署時(shí)間。
    * ^: _6 c1 e' P- ^3 _) j! v[/ol]
    - K  l5 B; s2 Q7 E+ x  e ' b  ~: R& ]; I& G. v7 d* f
    圖5展示了固態(tài)動(dòng)態(tài)冷卻的概念,說明了如何在被動(dòng)和主動(dòng)模式下運(yùn)行以滿足不同的散熱需求。# P5 R7 k$ J) ~$ \5 j- a: i

    ' o. i; V( o* S: F實(shí)際應(yīng)用:Hex 2.0 CPU冷卻器1 r$ I. T9 E/ Q! G2 v* L
    為了說明固態(tài)冷卻的實(shí)際應(yīng)用,讓我們來看看Phononic公司開發(fā)的Hex 2.0 CPU冷卻器。這種創(chuàng)新的冷卻器在緊湊的92毫米外形中結(jié)合了被動(dòng)和主動(dòng)冷卻技術(shù)。% B* }( e" K' E# K8 [+ o
    " E/ ]3 W' V6 S; ~4 D! S
    1 c# k) S" z; H" W, X1 b
    圖6展示了Hex 2.0 CPU冷卻器,展示了其緊湊設(shè)計(jì)以及被動(dòng)和主動(dòng)冷卻元件的集成。/ j+ m, P( Z- h( k# b1 j( B# F
    8 K  J; P. Z6 `
    Hex 2.0有兩種運(yùn)行模式:
  • 被動(dòng)模式:在正常條件下,冷卻器作為傳統(tǒng)散熱器運(yùn)行,通過主散熱器有效散熱。
  • 導(dǎo)熱模式:當(dāng)CPU處于壓力下并產(chǎn)生更多熱量時(shí),熱電元件激活,通過輔助散熱器提供額外的冷卻能力。$ b4 v/ e1 k2 N' ^7 A0 @$ K0 E
    [/ol]
    1 I$ l  A4 d- }8 n! q9 d2 w* V/ k這種動(dòng)態(tài)方法使Hex 2.0的性能超過了許多傳統(tǒng)冷卻解決方案,包括一些外形更大的液體冷卻系統(tǒng)。! J+ W" G  P' C' n+ G

    5 F1 k2 \8 R% S% H" ?
    8 J1 M, }& ~( E* r9 ^! _: r# `" V圖7展示了Hex 2.0與其他冷卻解決方案的性能對(duì)比,展示了其優(yōu)越的冷卻效率。
    2 Z! k: e6 _% Y+ Y3 Z. `( B. }, e2 N4 G5 S5 ]& @, ]
    數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施的廣泛應(yīng)用
    9 j6 j1 e* ~/ c8 d固態(tài)冷卻的原理可以應(yīng)用于單個(gè)CPU冷卻器之外的領(lǐng)域。這項(xiàng)技術(shù)有潛力徹底改變數(shù)據(jù)中心各種組件的冷卻方式,包括:
    / ?3 w8 }" P, _  |# }
  • 機(jī)架頂部交換機(jī)
  • 計(jì)算核心
  • 后門冷卻系統(tǒng)
    + w, Y) G; m$ a* ]+ }; y- }

    4 w1 j  S+ }* O% t$ w1 l通過在整個(gè)數(shù)據(jù)中心實(shí)施固態(tài)冷卻解決方案,運(yùn)營(yíng)商可以:
    ; t* G$ m# ]6 V; m+ |5 d& U, W
  • 穩(wěn)定光學(xué)網(wǎng)絡(luò)的頻率
  • 消除CPU/GPU的降頻
  • 提高現(xiàn)有基礎(chǔ)設(shè)施的潛力
  • 延長(zhǎng)組件的使用壽命
  • 平滑熱點(diǎn)
  • 提高機(jī)架和數(shù)據(jù)中心層面的功率密度
    + t  V' o' e3 e# W

    6 b  Z  ~4 E8 @3 M
    + |* A9 C; C% k& v! A2 H! E( T
    : c% v1 d8 H/ w. [圖8展示了如何在數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施的各個(gè)元素中部署固態(tài)冷卻解決方案。
    + h  W  H/ V+ j+ X- V+ `
    2 q  z1 [0 s# q- m8 r結(jié)論
    / s+ Q% g& M4 L- d隨著數(shù)據(jù)中心不斷發(fā)展以滿足高性能計(jì)算和人工智能應(yīng)用的需求,熱管理仍然是一個(gè)關(guān)鍵挑戰(zhàn)。固態(tài)冷卻提供了一種有前景的解決方案,具備應(yīng)對(duì)現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心復(fù)雜熱景觀所需的靈活性和效率。
    , H1 J( b# i5 \9 A
    % K, a0 l& a! Y1 x通過在動(dòng)態(tài)、響應(yīng)式系統(tǒng)中結(jié)合被動(dòng)和主動(dòng)冷卻的優(yōu)勢(shì),固態(tài)冷卻技術(shù)使數(shù)據(jù)中心能夠:
    + G1 t4 n: w7 Q$ a
  • 最大化計(jì)算性能
  • 提高能源效率
  • 延長(zhǎng)現(xiàn)有基礎(chǔ)設(shè)施的壽命
  • 為未來功率密度的增加做好準(zhǔn)備5 a3 R! i4 T* t2 [$ ^& h8 ?+ E& c
    7 J, P( D5 V4 K: J3 |+ n7 {. l4 u
    隨著行業(yè)的發(fā)展,采用固態(tài)冷卻等創(chuàng)新冷卻解決方案將對(duì)釋放下一代計(jì)算技術(shù)的全部潛力起重要作用,同時(shí)保持可持續(xù)和高效的數(shù)據(jù)中心運(yùn)營(yíng)。. u7 ]2 R# G0 g: I; A" U/ i

    5 l5 o% `$ F  m8 [7 I# W  d參考文獻(xiàn)
    ; N' `) Z" Z8 B) h2 o[1] J. Edwards, "Datacenters: Explosive Growth Meets Thermal Consequences Power & Potential of Solid State Cooling," Phononic, Aug. 25, 2024.
    / y6 Y* s2 d- GEND
    6 P3 C7 N0 g7 J, j; U" k% k
    + O/ G) r) v6 @3 ~4 ]. p

    / J" B% f1 B" v: D軟件申請(qǐng)我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請(qǐng)?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。2 O& E9 y" }' `) f+ L6 }3 Q2 Y
    點(diǎn)擊左下角"閱讀原文"馬上申請(qǐng)
    " J: A+ b$ l1 C1 A2 a* f6 J
    ! t. _$ y* i6 c歡迎轉(zhuǎn)載
    3 j% [) g$ g" [" U+ a8 D' k
    2 T# ~7 J9 p7 s( \. b2 B轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!3 I; S$ U& L/ x: ?7 {! B% Z

    6 e- o9 @; k7 w# Y- W
    " @3 R* s6 m' w- e8 M4 L
      I" e+ U3 p) E# R
    , A* t0 e% T7 z0 n

    & k+ ^% Q0 D$ R: B! P' n關(guān)注我們
    & \: v2 E! @/ u! ]  F+ a4 z& v' d& v' M9 ]- k8 K+ V" n. S0 E4 }
    8 N  X4 h$ D( w# ~% v$ u0 s

    5 [( U, n% _9 S+ S6 q
    * B' r# k: }5 i' \9 g6 S
    # q, ]( X  ~  d9 v+ r

    / o. p% Y1 j. ?) G' e
    . [. w1 @, Y) Y
                          : p) t; T7 W8 J8 {! Z) u  p/ s! ?

    % Z0 R5 v& S5 `1 c1 M( `
    $ D2 I5 ~+ D2 b* x+ v
    1 W. b( O8 f, }: t
    關(guān)于我們:
    : P( ^* V( e, e+ W8 ^- D. q1 ]  i深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
    2 ^+ e( J. \0 r( {5 i
    : h- p$ G% r* `& D$ g* ?# g  [http://www.latitudeda.com/
      J5 F& q0 K: g' a* F% N(點(diǎn)擊上方名片關(guān)注我們,發(fā)現(xiàn)更多精彩內(nèi)容)
  • 發(fā)表回復(fù)

    本版積分規(guī)則

    關(guān)閉

    站長(zhǎng)推薦上一條 /1 下一條


    聯(lián)系客服 關(guān)注微信 下載APP 返回頂部 返回列表