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1 V8 r) C$ i+ b! ?南智光電攜手逍遙科技更新了晶圓級(jí)薄膜鈮酸鋰器件工藝開(kāi)發(fā)包(Process Design Kit,簡(jiǎn)稱(chēng)PDK)2.0版本。這次更新在1.0版本的基礎(chǔ)上進(jìn)行了全面升級(jí),優(yōu)化了器件性能,并提供了更豐富的可調(diào)參數(shù)器件庫(kù)。
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0 q$ Y Q; i G- ^4 |$ ~$ M0 j" x3 y3 UPDK 2.0的主要更新
1 l! C }* e& u' M0 {+ L+ F9 r. L包括元件命名簡(jiǎn)化、材料層修改、傳輸元件標(biāo)識(shí)優(yōu)化、設(shè)計(jì)范圍標(biāo)記功能、新增MZI元件、調(diào)制器設(shè)計(jì)優(yōu)化、微環(huán)元件添加、熱調(diào)節(jié)元件引入、Z傳輸組件增加以及邊緣耦合器的更新和端口放置限制等多個(gè)方面。
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^) `' J+ {0 G) b3 ]南智光電的PDK基于逍遙科技的PIC Studio,為用戶(hù)提供了標(biāo)準(zhǔn)化的設(shè)計(jì)工具庫(kù)。這個(gè)PDK不僅規(guī)范和定義了包括調(diào)制器在內(nèi)的各種關(guān)鍵器件的加工信息,還包括了材料參數(shù)、工藝步驟和測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)等詳細(xì)信息。這些細(xì)節(jié)為制造環(huán)節(jié)提供了明確的指導(dǎo),有助于提高產(chǎn)品的一致性和可靠性。: y1 T7 ~' f, `7 w
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PDK 2.0的發(fā)布標(biāo)志著南智光電平臺(tái)在光電子芯片產(chǎn)線(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)化代工流片能力方面取得了顯著進(jìn)步。這一升級(jí)為設(shè)計(jì)者提供了更多工具和可能性,使得更復(fù)雜、更高性能的光電子芯片設(shè)計(jì)成為可能。
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. ~, h% p, X4 {! x5 e! K; iPDK 2.0更新反映了光電子技術(shù)領(lǐng)域的快速發(fā)展,展示了南智光電在推動(dòng)光電子芯片設(shè)計(jì)和制造標(biāo)準(zhǔn)化方面的努力。通過(guò)提供更全面、更靈活的設(shè)計(jì)工具,南智光電攜手逍遙科技正在為光電子產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步做出貢獻(xiàn)。+ w7 g$ r/ l/ ] ]" y9 r: N
8 _+ q/ o/ r+ H, F9 Y' L" t" K3 Q. J歡迎聯(lián)系我們以獲取更多關(guān)于南智光電PIC Studio PDK 2.0的詳細(xì)信息或技術(shù)支持。我們期待與您合作,共同推進(jìn)光電子芯片設(shè)計(jì)的創(chuàng)新與發(fā)展。
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) y" a: k% \4 q7 b+ V. N' s6 r軟件申請(qǐng)我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請(qǐng)?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無(wú)論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。
8 n: i/ g; T' ^/ H) K$ J點(diǎn)擊左下角"閱讀原文"馬上申請(qǐng)
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# D& Q9 z* ]) t, ^# s: o歡迎轉(zhuǎn)載
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深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開(kāi)發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶(hù)。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線(xiàn)合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶(hù)提供前沿技術(shù)與服務(wù)。& o4 L( \" j1 e" B+ f! T5 R
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