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Scientific Reports | 深度學(xué)習(xí)在納米光電子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和優(yōu)化中的應(yīng)用

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引言
8 e  ^1 Q% A; f# P( M納米光電子技術(shù)通過(guò)在亞波長(zhǎng)尺度上精確控制光與物質(zhì)的相互作用,導(dǎo)致了生物學(xué)、納米技術(shù)和光通信等領(lǐng)域的突破。然而,設(shè)計(jì)和優(yōu)化納米光電子結(jié)構(gòu)通常需要復(fù)雜的數(shù)值模擬,這些模擬計(jì)算量大。深度學(xué)習(xí)為加速這一過(guò)程并實(shí)現(xiàn)納米光電子器件更高效的反向設(shè)計(jì)提供了有前景的方法。8 n# D  }8 e6 W7 d
9 Z# G1 @: u$ x7 O. g/ z1 f5 ^' M
本文探討如何應(yīng)用深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)來(lái)預(yù)測(cè)納米光電子結(jié)構(gòu)的光學(xué)特性并解決反向設(shè)計(jì)問(wèn)題。重點(diǎn)關(guān)注基于非線性環(huán)形諧振器的全光學(xué)等離子體開關(guān)(AOPS)的例子[1]。3 P' h0 w1 A' k+ B- c
* B9 ]/ d1 A% N& ~0 W9 S
- m3 |; V/ [3 {$ H1 V* x+ v
深度學(xué)習(xí)在納米光電子技術(shù)中的優(yōu)勢(shì)
  C( U1 X/ h2 `2 c9 I深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)擅長(zhǎng)學(xué)習(xí)輸入和輸出之間的復(fù)雜非線性關(guān)系。對(duì)于納米光電子結(jié)構(gòu),我們可以訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò)將幾何參數(shù)映射到光譜,或反之亦然。這允許在不運(yùn)行耗時(shí)的電磁模擬的情況下快速預(yù)測(cè)結(jié)構(gòu)的光學(xué)響應(yīng)。* d* @+ Y4 p5 H1 p8 g* p

2 E. D3 U2 F$ @4 k+ A3 O在納米光電子技術(shù)中使用深度學(xué)習(xí)的主要優(yōu)勢(shì)包括:
4 Q3 O0 R; x3 Q! Q! f2 y1. 速度:一旦訓(xùn)練完成,神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)可以在毫秒內(nèi)預(yù)測(cè)光譜或設(shè)計(jì)參數(shù),而傳統(tǒng)模擬需要數(shù)小時(shí)。
' ]1 h* R" q; N2. 反向設(shè)計(jì):可以訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò)解決確定結(jié)構(gòu)參數(shù)以實(shí)現(xiàn)所需光學(xué)響應(yīng)的反向問(wèn)題。
' P# @5 `6 R4 s  V3. 泛化:訓(xùn)練良好的網(wǎng)絡(luò)可以在訓(xùn)練樣本之間進(jìn)行插值,以預(yù)測(cè)新結(jié)構(gòu)的行為。1 j) c$ {/ I' i" ?2 T+ t4 K% q' V& o
4. 多目標(biāo)優(yōu)化:神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)可用于快速探索大型設(shè)計(jì)空間并同時(shí)優(yōu)化多個(gè)目標(biāo)。
8 N/ y) [' u! [4 M7 O. e0 }- y: j( ~& Y% S/ M1 w& ]. J5 @) y
讓我們看看如何將深度學(xué)習(xí)應(yīng)用于全光學(xué)等離子體開關(guān)的設(shè)計(jì)。' _7 G; @( a$ T

$ o9 x+ K3 o, F3 L3 a全光學(xué)等離子體開關(guān)設(shè)計(jì)- y8 @$ j' \' C! h: L: G
論文重點(diǎn)研究基于方形非線性等離子體環(huán)形諧振器(NPRR)的AOPS器件。這些器件利用克爾非線性效應(yīng),通過(guò)調(diào)制輸入強(qiáng)度在輸出端口之間切換光。6 n1 Q7 G8 ~2 d/ H5 r

/ g5 K7 {2 {9 Y+ t* s( e圖1:方形AOPS結(jié)構(gòu)示意圖,顯示了關(guān)鍵幾何參數(shù)。$ L4 a7 p/ A7 Q6 U) `" v5 o# V

$ x1 N7 c9 x/ U& @; [4 @關(guān)鍵設(shè)計(jì)參數(shù)是波導(dǎo)的寬度(Wbus、Wdrop、Wsquare)和間隙(Gbus、Gdrop)。通過(guò)調(diào)整這些參數(shù),我們可以控制器件的共振波長(zhǎng)和開關(guān)行為。" i: e9 E% D+ z7 d/ i% e

6 d! U& A- T/ F) S2 D8 w7 A8 T- W/ E傳統(tǒng)上,優(yōu)化這些參數(shù)需要運(yùn)行許多電磁模擬來(lái)掃描參數(shù)空間。相反,我們可以使用深度學(xué)習(xí)來(lái)快速預(yù)測(cè)光譜并解決反向設(shè)計(jì)問(wèn)題。
6 b* S$ m4 o/ L" m( ]6 S" z* }# ?0 J4 u7 V5 I
深度學(xué)習(xí)工作流程
) y' J  Z8 E9 t" E深度學(xué)習(xí)方法涉及以下關(guān)鍵步驟:% P9 J* l1 Q2 ~& \9 d$ h
1. 數(shù)據(jù)生成:使用電磁模擬(如FDTD)生成幾何參數(shù)和相應(yīng)透射光譜的數(shù)據(jù)集。5 q$ x+ H' O  n: Y6 `
2. 數(shù)據(jù)預(yù)處理:應(yīng)用如田口方法等技術(shù),有效地采樣參數(shù)空間并減少所需的數(shù)據(jù)集大小。
' t+ C9 }. {! G# r& d; r3. 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)設(shè)計(jì):創(chuàng)建合適的網(wǎng)絡(luò)架構(gòu),通常是具有多個(gè)隱藏層的全連接網(wǎng)絡(luò)。4 ?+ Q6 q9 f3 l3 L! G# E
4. 訓(xùn)練:在數(shù)據(jù)集上訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò),優(yōu)化權(quán)重以最小化預(yù)測(cè)誤差。
8 R  o) h; Y2 P5. 驗(yàn)證:在保留的數(shù)據(jù)上測(cè)試訓(xùn)練好的網(wǎng)絡(luò),以評(píng)估泛化性能。
) H' u0 ]* F+ T- O8 n) F6. 應(yīng)用:使用網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行快速光譜預(yù)測(cè)和反向設(shè)計(jì)任務(wù)。! h' a( a4 U' X: X! y8 P: d

" A& O+ J' p, @4 b讓我們更詳細(xì)地檢查每個(gè)步驟。6 g$ K5 M1 X2 E1 `9 Q# E
! C1 ?2 n: b; `4 m5 q' S
數(shù)據(jù)生成和預(yù)處理- h/ @9 `6 W) k7 r" `; t
生成訓(xùn)練數(shù)據(jù)通常是最耗時(shí)的步驟。作者使用FDTD模擬創(chuàng)建了包含18,432個(gè)獨(dú)特參數(shù)組合和光譜的數(shù)據(jù)集。為了降低計(jì)算成本,應(yīng)用了田口方法來(lái)策略性地采樣參數(shù)空間。
- N$ s; @4 s2 B1 s; s
# ]3 _1 W' n% ?6 Y( D4 `: R) H: C: @田口方法允許將數(shù)據(jù)集減少到完整參數(shù)掃描的1/16,而不顯著影響模型性能。這突顯了在將深度學(xué)習(xí)應(yīng)用于納米光電子技術(shù)時(shí),智能數(shù)據(jù)生成策略的重要性。5 u8 l0 s& P0 o' x$ a

  `( i- e" D# |! |5 x; Q6 Y$ {神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)8 l  Y- T" m4 X" Y
作者使用了具有11個(gè)隱藏層的全連接神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)。中心隱藏層包含160個(gè)神經(jīng)元,神經(jīng)元數(shù)量向輸入和輸出層遞減。$ W& X( q/ C3 P& C: R7 z( G5 a
8 G5 C8 B2 G3 Q3 G8 ?
圖2:用于光譜預(yù)測(cè)的深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)示意圖。7 A" U" d1 J7 [+ U  R% }
  C. p# N# J1 @! R$ k4 m( v
網(wǎng)絡(luò)設(shè)計(jì)的關(guān)鍵特征包括:
- _6 c" }5 ?9 o; ]  T+ r: j8 t
  • 過(guò)完備隱藏層以增強(qiáng)表示能力
  • Leaky ReLU激活函數(shù)以防止梯度消失
  • Adam優(yōu)化器以實(shí)現(xiàn)高效訓(xùn)練& v; o7 z' b0 _- O

    " I* l9 }7 H4 T% A2 `: |4 L網(wǎng)絡(luò)以幾何參數(shù)和波長(zhǎng)作為輸入,并預(yù)測(cè)透射光譜作為輸出。7 R3 l3 ^0 n5 b
    $ B% j8 F8 X6 W. q# s, O- V3 X
    訓(xùn)練和驗(yàn)證
    3 K1 Z5 T+ O7 `" h3 R數(shù)據(jù)集被分為70%訓(xùn)練集、15%驗(yàn)證集和15%測(cè)試集。網(wǎng)絡(luò)被訓(xùn)練以最小化預(yù)測(cè)光譜和實(shí)際光譜之間的均方誤差。
    # f  G! x- f# G6 n
    + h4 @$ E# H7 U/ }" Y) p$ ?" O圖3:訓(xùn)練損失曲線,顯示在初始階段誤差顯著下降。0 m, b  i5 l0 T3 d/ r

    % A0 m: [; K7 [# A' `+ \4 b最終模型在驗(yàn)證集上達(dá)到0.028的損失,在測(cè)試集上達(dá)到0.03的損失,表明對(duì)未見(jiàn)過(guò)的數(shù)據(jù)有良好的泛化能力。
    . b! C) Q' A5 r, b) c
    . K9 x3 y% ~2 _$ U' w為了評(píng)估性能,作者比較了對(duì)訓(xùn)練中未見(jiàn)過(guò)的結(jié)構(gòu)的預(yù)測(cè)光譜和實(shí)際FDTD模擬結(jié)果。5 a9 R* w& }: a9 s/ H

    ( v$ B" W2 o$ Q& {/ z+ ^) r& x圖4:對(duì)未見(jiàn)過(guò)結(jié)構(gòu)的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)預(yù)測(cè)光譜(紅色)與實(shí)際FDTD模擬(藍(lán)色)的比較。/ @4 N5 T/ y' C9 @5 p9 X

    8 g! y5 Z) z! ~% X# Q預(yù)測(cè)光譜與實(shí)際光譜之間的密切匹配展示了網(wǎng)絡(luò)捕捉復(fù)雜光譜特征的能力。
    " E9 k) g2 J  k& A# Z7 b
    0 X! G5 a: j+ J4 y: a3 I深度學(xué)習(xí)在AOPS設(shè)計(jì)中的應(yīng)用. H& c: o  _: C/ {0 ]0 Z
    通過(guò)訓(xùn)練好的網(wǎng)絡(luò),可以快速探索設(shè)計(jì)空間并優(yōu)化AOPS器件。6 w5 \/ a$ e0 B5 d+ k' O0 G+ V
    作者展示了兩個(gè)關(guān)鍵應(yīng)用:
    / h( O9 `! R$ o" [1. 正向模型:預(yù)測(cè)給定幾何參數(shù)的透射光譜。% M, V' G, |) ~4 K
    2. 反向模型:確定實(shí)現(xiàn)所需光譜的幾何參數(shù)。
    / W" l* P0 u/ f  j8 ~+ M+ g$ e4 C. H, p, g) f7 u
    對(duì)于正向模型,網(wǎng)絡(luò)可以在幾分鐘內(nèi)生成數(shù)百萬(wàn)個(gè)結(jié)構(gòu)的光譜,實(shí)現(xiàn)快速設(shè)計(jì)空間探索。這允許識(shí)別特定波長(zhǎng)或開關(guān)性能的最佳參數(shù)。
    ; P! d5 ?# j4 C: D  U3 T ) J7 c' w. k4 D  o0 t% B! L7 x! X
    圖5:透射光譜和光場(chǎng)分布,顯示AOPS開關(guān)性能。" B. g9 s& r' r9 ^

    ' `9 b% C, ?8 d  ?: Y# N反向模型允許確定實(shí)現(xiàn)目標(biāo)光譜的幾何參數(shù)。這使得可以為特定應(yīng)用或波長(zhǎng)設(shè)計(jì)器件。
    2 |  G; Z' v: v# e* z1 h
    6 @6 i0 ~0 r, N+ {3 Y; B3 B圖6:目標(biāo)光譜(藍(lán)色)與反向模型預(yù)測(cè)光譜(紅色)的比較。' ?# B( O' y) v' i0 u& E. J1 y5 Y. v
    9 Q) l$ Q& W- \4 w
    目標(biāo)光譜和預(yù)測(cè)光譜之間的密切匹配突顯了深度學(xué)習(xí)在納米光電子反向設(shè)計(jì)中的強(qiáng)大力量。
    2 A1 i- U- j1 C6 N0 R2 s
    / X* p5 q$ j2 Y2 c. n$ l7 G結(jié)論; }5 J" f& ?' m! }& f" h2 x
    深度學(xué)習(xí)為加速設(shè)計(jì)和優(yōu)化諸如全光學(xué)等離子體開關(guān)等納米光電子結(jié)構(gòu)提供了強(qiáng)大的方法。通過(guò)在模擬數(shù)據(jù)上訓(xùn)練神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),可以實(shí)現(xiàn)光學(xué)特性的快速預(yù)測(cè)并解決反向設(shè)計(jì)問(wèn)題。/ J. h. j1 w9 \, v1 a
    : O( S! ?; T' x6 V& Q4 S& H
    主要優(yōu)勢(shì)包括:
    ; T3 _2 P5 u; E$ G
  • 與電磁模擬相比,光譜預(yù)測(cè)速度提高了幾個(gè)數(shù)量級(jí)
  • 能夠高效解決反向設(shè)計(jì)問(wèn)題
  • 快速探索大型設(shè)計(jì)空間以進(jìn)行多目標(biāo)優(yōu)化
    / L8 x, w7 ^5 m0 [) o) _) _' K% T
    ! a; f9 K( F9 t9 d6 f) a6 j% b( h
    參考文獻(xiàn)( f; Z; ?3 o* F* e# y; o. C8 w
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    - t/ ?& o. |( x, @6 @( i' e4 \END7 Z2 O# p. {8 e" }
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    深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。: P# X9 b# Z& Y; V8 m1 c) P' T

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