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現(xiàn)代半導(dǎo)體先進封裝技術(shù)

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先進封裝簡介
' O1 b6 M8 h$ q! ~7 c2 D, \1 c1 n先進封裝技術(shù)已成為半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的主要推動力之一,為突破傳統(tǒng)摩爾定律限制提供了新的技術(shù)手段。本文探討先進封裝的核心概念、技術(shù)和發(fā)展趨勢[1]。0 E. \0 r* c, g/ ?5 }7 k8 }3 U6 h

  ]# B$ L# }( K  p圖1展示了硅通孔(TSV)技術(shù)的示意圖和實物照片,顯示了垂直互聯(lián)結(jié)構(gòu)。/ t: C3 J! R0 v) a
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XY平面和Z軸延伸的關(guān)鍵技術(shù)0 B& o; O$ ?. E3 h( n' L
現(xiàn)代先進封裝可分為兩種主要方式:XY平面延伸Z軸延伸。XY平面延伸主要利用重布線層(RDL)技術(shù)進行信號布線,而Z軸延伸則采用硅通孔(TSV)技術(shù)實現(xiàn)垂直連接。1 \) J5 d2 y; d
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圖2展示了扇入和扇出重布線的示意圖,說明了重新分布芯片連接的不同方法。
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扇出技術(shù)及演進( N0 W5 j6 W* u0 ^/ d
扇出晶圓級封裝(FOWLP)是先進封裝的重要發(fā)展之一。該技術(shù)將重布線層擴展到芯片區(qū)域之外,在保持緊湊外形的同時增加輸入/輸出連接數(shù)量。該技術(shù)已發(fā)展出集成扇出(InFO)面板級扇出封裝(FOPLP)等變體。& a$ w6 a7 Z1 c3 s. E* }& V4 _( j
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圖3對比了FIWLP、FOWLP和InFO技術(shù),展示其結(jié)構(gòu)差異和演進過程。
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# E0 o# q/ Y# t  ^  @  A& STSV集成與實現(xiàn)
& [/ v+ q; s% S# a/ ETSV技術(shù)實現(xiàn)了先進封裝中的真正3D集成。TSV可以采用3D或2.5D配置實現(xiàn),每種方法都具有不同應(yīng)用場景的優(yōu)勢。
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& b8 ~* k2 E+ S7 s4 S- ?圖4展示了3D TSV和2.5D TSV的示意圖,說明這兩種方法的根本區(qū)別。
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3 z6 D. L% \% j+ n( v0 C行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者及解決方案
' w' [1 j9 A. x' D; ]$ d主要半導(dǎo)體公司都開發(fā)了自己的先進封裝技術(shù)。臺積電的晶圓級芯片堆疊(CoWoS)技術(shù)在高性能計算應(yīng)用中得到廣泛應(yīng)用。
* g5 R  x+ S" o# c
0 d& k. q' ~0 `( K; M圖5顯示了CoWoS結(jié)構(gòu)示意圖,展示了芯片在硅中介層和基板上的集成方式。5 J  {- n1 O2 C0 k/ c. M6 K# X

/ e5 l& `7 Q2 s$ l; {7 u5 A先進內(nèi)存集成
1 y' X0 ?* v0 s$ f高帶寬內(nèi)存(HBM)是先進封裝領(lǐng)域的重要突破,特別適用于圖形處理和高性能計算應(yīng)用。HBM將3D堆疊與高速接口相結(jié)合,實現(xiàn)了極高的內(nèi)存帶寬。
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圖6展示了HBM技術(shù)示意圖和實物剖面,顯示了堆疊內(nèi)存結(jié)構(gòu)和互連方式。9 T8 ~: q9 J1 M% |$ V. |
6 D4 Z1 `  x% a9 @: D  p; a+ {0 x
英特爾的先進封裝方案
& E( |* K9 N' U英特爾推出了嵌入式多芯片互連橋接(EMIB)Foveros等創(chuàng)新技術(shù)。這些方法提供了實現(xiàn)高密度集成的不同途徑。
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圖7對比了EMIB、Foveros和CO-EMIB的技術(shù)示意圖和產(chǎn)品剖面,展示了英特爾各種先進封裝解決方案。3 |5 b) x" l2 y. B- J
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先進封裝的基本要素
% y( `( r& J3 K先進封裝的基礎(chǔ)建立在四個關(guān)鍵要素之上:RDL、TSV、凸點和晶圓。這些要素共同支持各種集成方法和技術(shù)。
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圖8展示了先進封裝的四個要素:RDL、TSV、凸點和晶圓,說明各要素間的相互關(guān)系。
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5 h7 q1 b  j* @  |5 Z# w9 c技術(shù)趨勢與演進- U3 I7 k4 u' j* d
隨著技術(shù)進步,這些要素出現(xiàn)了新的發(fā)展趨勢,特別是凸點技術(shù)逐漸向更細(xì)間距發(fā)展,在硅對硅接口中可能最終被淘汰。) h5 U( ~% U. L7 N9 K
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圖9顯示了凸點技術(shù)的發(fā)展趨勢,描述了向更細(xì)間距演進并最終在硅接口中消失的過程。
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先進封裝與SiP的關(guān)系
6 C7 @' P, y3 ^) l先進封裝與系統(tǒng)級封裝(SiP)的關(guān)系復(fù)雜,既有重疊又有區(qū)別。雖然所有先進封裝解決方案都旨在提高系統(tǒng)密度和性能,但采用的方法和技術(shù)可能不同。: {; \$ w! [& H& n) K0 [
4 ]& P& k3 Y5 z# m( k
圖10描述了HDAP和SiP的關(guān)系,展示重疊區(qū)域和獨特特征。- `+ P* M3 I! [8 ]. V% M: X/ a
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未來展望與行業(yè)影響
0 t& ?1 e  a9 f( M( y4 `先進封裝技術(shù)持續(xù)發(fā)展,新技術(shù)不斷涌現(xiàn),以滿足現(xiàn)代電子產(chǎn)品日益增長的需求。從移動設(shè)備到高性能計算,先進封裝在推動下一代電子系統(tǒng)發(fā)展中發(fā)揮重要作用。
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- j' G. F5 h% l+ e4 s) Y2 o. L1 g近年來,行業(yè)出現(xiàn)了許多重要創(chuàng)新,如臺積電的SoIC和三星的X-Cube等技術(shù),推動了先進封裝技術(shù)的發(fā)展。這些進展表明,先進封裝將繼續(xù)推動半導(dǎo)體創(chuàng)新,提供提升系統(tǒng)性能、降低功耗的新方法。$ n9 Y% a% p# _0 z+ M& S
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先進封裝代表了半導(dǎo)體技術(shù)從傳統(tǒng)的"重外部"封裝轉(zhuǎn)向"重內(nèi)部"集成。轉(zhuǎn)變促進了芯片設(shè)計團隊和封裝團隊的緊密合作,為現(xiàn)代電子系統(tǒng)提供了更優(yōu)化、更高效的解決方案。3 D, ~) f- F1 ]2 `- n- n
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參考文獻
7 h# G. |; W+ n: L6 d0 H9 A" s3 Z[1] S. Li, "SiP and Advanced Packaging Technology," in MicroSystem Based on SiP Technology. Beijing, China: Publishing House of Electronics Industry, 2022, ch. 5, pp. 117-154., i1 N* U% i; `; {% }2 X

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+ g( ?7 `9 p. ~9 B+ _( p0 U歡迎轉(zhuǎn)載
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轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!1 ?7 P3 X3 x, s" Y0 L! G* A# n% v

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, j  k* `9 K  e5 m& T8 C# V1 M深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。! v0 U& n% M  r

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