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先進(jìn)半導(dǎo)體封裝的趨勢與技術(shù)

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發(fā)表于 2024-9-13 08:03:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言0 c4 v( X  ^! A, a8 e& {
半導(dǎo)體行業(yè)正在快速發(fā)展,主要由多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Ω咝阅、更低功耗和小型化的需求?qū)動(dòng)。先進(jìn)封裝技術(shù)在滿足這些需求方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用,通過實(shí)現(xiàn)多樣化組件的異構(gòu)集成。本文以參考文獻(xiàn)為基礎(chǔ)概述了先進(jìn)半導(dǎo)體封裝的主要趨勢和技術(shù)[1],非最新的信息,但可以見到技術(shù)的連續(xù)演進(jìn),當(dāng)年的預(yù)測依然正確。; s+ e+ _5 s( w# _0 b8 ?; K" A6 I

1 b% P4 Y, y6 o# ~

- C( g7 }: z$ S驅(qū)動(dòng)因素和應(yīng)用6 t2 ~: _! C  }) r9 v; _
推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)增長的幾個(gè)主要應(yīng)用包括:
! r$ r( u% }& @, j
  • 移動(dòng)設(shè)備
  • 高性能計(jì)算
  • 自動(dòng)駕駛汽車
  • 物聯(lián)網(wǎng)(IoT)
  • 大數(shù)據(jù)和云計(jì)算
  • 邊緣計(jì)算
    & F6 x& `4 f* E, m& j
    0 |% d0 t% S$ T2 N. {7 `1 j# M
    這些應(yīng)用由人工智能和5G通信等系統(tǒng)技術(shù)驅(qū)動(dòng)因素推動(dòng)。為支持這些應(yīng)用,先進(jìn)封裝技術(shù)必須提供:
    & ^/ L, ?/ P" j" S
  • 更高密度的集成
  • 改善電氣和熱性能
  • 降低成本
  • 加快上市時(shí)間' i! A# L) m8 i! B2 V! x9 C% l
    : _0 Q- p% c/ H2 J9 I
      j. Z& R1 f* K% Z. B3 ~0 n7 ^. h2 i# s$ D

    # Z7 Y. F. D/ g9 i6 |' Z( ^0 F圖1:各種先進(jìn)封裝技術(shù)的性能和密度比較) [# M0 e  L: q

    ; R0 a% O- f8 W主要先進(jìn)封裝技術(shù)( `6 H5 T+ o* P
    1. 扇出型晶圓級(jí)封裝(FOWLP)
    # [; q' l$ Y& d( x; W4 RFOWLP通過將芯片嵌入模塑料中并形成重布線層(RDL)來擴(kuò)展傳統(tǒng)的晶圓級(jí)封裝,從而扇出連接。這允許在更小的形狀因子中實(shí)現(xiàn)更高的I/O密度。
    - T4 `1 s% c+ F) E  ~+ z8 h; B% T: Q8 q& M
    ' _8 }5 D0 z& K* k1 y
    圖2:采用芯片優(yōu)先、面朝下方法的扇出型晶圓級(jí)封裝橫截面8 ~, v" {  f% O0 p4 y

    0 h* m: F; n3 ~7 c# X8 e, {% I2. 使用中介層的2.5D集成5 ?' N0 s: ?' ?! e4 h
    2.5D集成使用帶有硅通孔(TSV)的硅中介層來連接多個(gè)并排的芯片。這實(shí)現(xiàn)了高帶寬的芯片間連接。
    - t" w% @; k# S  Z' d/ u' ]* R. w) B, s# ?

    * G, d& x& u7 H7 I4 s5 d4 E' k& J圖3:臺(tái)積電的局部硅互連(LSI)技術(shù),用于2.5D集成
    " A7 b: n: {4 i5 `4 |# G0 L* V! y8 a3 j* @4 i8 x5 K! Y5 K
    3. 使用TSV的3D集成! H3 B$ e$ I+ Q! z( h7 o1 K. z
    3D集成使用TSV垂直堆疊多個(gè)芯片進(jìn)行芯片間連接。這提供了最高的集成密度,但面臨熱管理和良率方面的挑戰(zhàn)。
    0 `6 }- l4 W2 ], T" U$ i8 s8 {- Z6 w* c0 ~0 f0 t( @
    4. Chiplet架構(gòu)
    $ G+ ]$ ^6 f: S8 c6 RChiplet涉及將大型系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)設(shè)計(jì)分割成更小的芯片,然后使用先進(jìn)封裝進(jìn)行集成。這改善了良率并允許混合使用不同的制程節(jié)點(diǎn)。( g+ Z, A2 }3 l  A9 j: h1 J3 r
    / s2 @6 ^- q+ N% \

    0 o8 _! D* Z3 Z! I6 K0 n圖4:AMD和英特爾基于Chiplet的處理器示例
    & R+ R0 }. m! C7 k3 l# u
    3 F# k# v& ]5 `) o" Q7 |6 X5. 混合鍵合
    - L5 L2 K7 K1 a( w) v0 ~; h* Q# w混合鍵合實(shí)現(xiàn)了芯片之間在非常精細(xì)間距下直接銅對銅鍵合,無需使用微凸點(diǎn)。這為芯片到芯片的集成提供了最高的互連密度。1 }  H9 {6 q( s! u

      [* T7 L& X3 @; I0 U* x; D圖5:微凸點(diǎn)鍵合和混合鍵合方法的比較- ^. B7 D: M* x" k: k
    " w- c8 |; p9 `( k* a: ^
    關(guān)鍵封裝工藝
    & a1 @; Z" s5 G- D+ H9 n9 `9 t幾種關(guān)鍵工藝技術(shù)促進(jìn)了先進(jìn)封裝:
    ; ~$ H( m" V$ X) ]4 v% D1 R1. 晶圓凸點(diǎn)制作
    % P# s% \$ k* V1 {: z; X晶圓凸點(diǎn)制作在芯片切割之前在晶圓上形成互連結(jié)構(gòu)。常見的凸點(diǎn)類型包括:
    ; \3 u8 b2 C5 |
  • 焊料凸點(diǎn)(C4)
  • 帶焊料帽的銅柱(C2)
    $ \/ O, j% ?8 w$ R( M* ?* e
    7 {  n+ J1 B' B  i' i" x( p
    4 c1 b8 S& `( S& t$ u" C
    圖6:C4和C2晶圓凸點(diǎn)制作的工藝流程# M: F+ Z" V; C0 t$ k. _# T6 Y
    - x0 R# x" p  }; m8 @
    2. 芯片貼裝和互連
    + o1 N; e) \8 l+ Z將芯片連接到基板或其他芯片的方法包括:: ^( p* |* J( m
  • 焊料凸點(diǎn)的回流
  • 熱壓鍵合(TCB)
  • 混合鍵合; j9 [7 M) r: h0 R) h/ X% h0 U
    . p4 Y  E* ]  U
    3. 底填
    & j$ U  S0 g& P: E底填材料被注入以填充芯片和基板之間的間隙,保護(hù)互連。
    : H2 S. [$ \7 l! e4 j) j
    3 |0 z$ I& V& E* P4. 重布線層(RDL)形成# i4 [4 L+ k8 h; m
    RDL在芯片表面重新布線連接。主要RDL工藝包括:3 p) q$ ?9 ]7 q1 D1 J/ z
  • 光刻
  • 電鍍
  • 蝕刻, ?4 j: ^- V% {2 H* G/ Q

    3 K% v; a) D. }# F7 D( A$ }5. 模塑
    7 L1 o7 g, q7 ~模塑料封裝芯片和互連以提供保護(hù)。方法包括:
    + d2 B/ I2 L9 B$ n& F& k
  • 傳遞模塑
  • 壓縮模塑
    7 e. q+ u" o/ X' T* d6 O

    . i7 ]  u5 E/ n5 ^先進(jìn)封裝趨勢
      d4 d3 |) l. G8 f1. 更精細(xì)的互連間距
    . W, m8 x2 I# l9 ^' S, s互連間距持續(xù)縮小以實(shí)現(xiàn)更高密度的集成:
      z( O2 m2 @1 j) N$ G翻轉(zhuǎn)芯片凸點(diǎn)間距:最小50μm1 M. G: i) f: c8 `; W
    微凸點(diǎn)間距:最小20μm* k/ y! L/ C* g" ^! q- R2 K3 Z. k
    混合鍵合間距:
    # x! p7 D6 q  o  c8 ^0 G

    / k& V2 [2 @+ }/ z2. 面板級(jí)封裝4 x7 ?5 o6 P3 k+ k2 m
    從晶圓級(jí)到面板級(jí)處理的轉(zhuǎn)變實(shí)現(xiàn)了更大的制造規(guī)模和更低的成本。
    + v+ n% q# \# c6 Y& Q
    9 M9 o8 Q, J; F2 p, b3. 先進(jìn)基板2 ?1 G& S3 \. Y! e- Z
    具有精細(xì)線/空間和嵌入式元件的有機(jī)基板正在實(shí)現(xiàn)更高密度的封裝。
    8 J; l2 h# V1 u! ]; L1 P% s7 p- h/ F7 ]
    4. Chiplet集成" a+ r" ^( k: G# G2 i
    作為單片SoC的替代方案,Chiplet的異構(gòu)集成正在增長。$ T% X* _% y/ G- E: O7 @
    0 R, [0 d- ^* i0 X1 y" i$ q
    5. 光電共封裝 (Co-Packaged Optics)7 u. f7 t- P6 T+ u1 T8 q8 y
    在封裝中集成光學(xué)元件正在實(shí)現(xiàn)更高帶寬的互連。
    ; O" y( J  h9 B" B* q) V; O, n/ _
    3 z# Y3 \' p5 r( U) H% a0 q6. 先進(jìn)熱管理4 ?+ w$ L/ Z/ _
    正在開發(fā)微流體等新型冷卻解決方案來解決熱挑戰(zhàn)。
    5 t0 v8 s, Z" g3 r. v( R3 _( l+ M5 i+ g" E  a# l/ N. e- [% d- V
    . k. |; f" R8 u! E% v9 B. C/ `6 ]* {
    可靠性考慮. [# n) a* x& p6 M
    隨著封裝變得更加復(fù)雜,確?煽啃宰兊弥匾V饕煽啃詥栴}包括:
    3 Z4 ?- X6 p1 ~& s% I; l
  • 互連的熱循環(huán)疲勞
  • 跌落沖擊抵抗
  • 濕敏性
  • 電遷移
  • 應(yīng)力引起的翹曲3 p0 h" a  Q# B! ^
    - G; o% Y0 k! D' E& Z
    需要先進(jìn)的建模和測試方法來預(yù)測和改善封裝可靠性。. o! E) e, r6 j7 f' h
    ; ~6 T' a$ Q) q# [. O
    % Y0 J$ g: }6 R2 y& ]
    圖7:與單片設(shè)計(jì)相比,Chiplet方法對芯片良率的影響
    9 |% ]2 j  j0 Z! P6 o
    : d3 y* _2 u2 _9 n; ]( _3 l# ?& w; v材料開發(fā)- B3 V1 y0 q4 @& s1 f, u
    新材料對實(shí)現(xiàn)先進(jìn)封裝很重要,包括:
    $ O- K; W9 y/ z. \$ u. L+ g; P. i6 {" A
  • 用于高頻應(yīng)用的低損耗介電材料
  • 低熱膨脹系數(shù)模塑料
  • 精細(xì)間距底填材料
  • 低溫焊料
  • 用于RDL的光敏介電材料
    : T: U# |* |3 L( U) g

    & S' Q2 @( e, E$ f+ [- b$ {( |' X* k
    " Y4 F( R4 H1 z
    圖8:封裝材料介電損耗(Df)的路線圖2 S0 g' ^8 a  `, n) V7 o

    # I# b# R) E4 z: y! K; u   t, g0 Z' @! Q2 U2 v) F# t
    圖9:封裝材料介電常數(shù)(Dk)的路線圖
    1 E4 x2 x( O; A; }- {9 ^- I) ?3 }; `+ C
    未來展望
    2 ]) |( H0 P$ B) U/ X* P先進(jìn)封裝將繼續(xù)在推動(dòng)半導(dǎo)體創(chuàng)新方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。需要關(guān)注的關(guān)鍵領(lǐng)域包括:, n- l% E: i/ N+ \
  • 晶圓級(jí)、面板級(jí)和PCB技術(shù)的融合
  • Chiplet和芯片分解的增加采用
  • 超越焊料和銅的新型互連技術(shù)
  • 芯片和封裝的協(xié)同設(shè)計(jì)
  • 石墨烯等新材料的集成
  • 嵌入式冷卻解決方案
  • 用于封裝設(shè)計(jì)和優(yōu)化的人工智能6 C! d6 t6 v- _, H/ ]: a
    * [- |4 m( i! B- O" m/ F
    隨著封裝變得更加復(fù)雜并對整體系統(tǒng)性能更加重要,芯片設(shè)計(jì)師、封裝設(shè)計(jì)師和材料供應(yīng)商之間的更密切合作將變得不可或缺。
    * D" H- {6 X, T  |! |- a) T- e0 I% G( K

    ' _: b6 o* [6 z* f5 S結(jié)論( p! P4 q. K% V: O* e
    先進(jìn)封裝正在快速發(fā)展以滿足下一代電子系統(tǒng)的需求。扇出型封裝、2.5D和3D集成以及Chiplet等技術(shù)正在實(shí)現(xiàn)前所未有的異構(gòu)集成水平。在材料、工藝和架構(gòu)方面持續(xù)創(chuàng)新對于克服挑戰(zhàn)和實(shí)現(xiàn)先進(jìn)封裝在未來應(yīng)用中的全部潛力將非常重要。7 y: ]' }) W' B; M

    0 I% K, w! L% X  Q/ X, i- t

    . M3 t9 a8 `! W" m7 T; Z參考文獻(xiàn)$ n7 w: P& F) N( W
    J. H. Lau, "Semiconductor Advanced Packaging," Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.6 t  z. w# C. N- t; f: R* W# X$ k

    1 |# J$ c: e' h3 _" J/ E. R+ ^, X5 t2 L6 H5 @6 G" Y

    ; g* c( t% `: r2 o; O" |- END -, L6 p6 a1 V; V) O
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    . w1 }) Q5 }% v
    轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!1 c9 A! ~7 j5 J, u0 [+ Q
    7 @$ q/ J4 O7 b. `$ a  t& H, ]

    ' k9 s& r- T* |) B3 E

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    3 [0 [( Z& C% B8 l- H9 L1 H) @
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