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引言0 c4 v( X ^! A, a8 e& {
半導(dǎo)體行業(yè)正在快速發(fā)展,主要由多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Ω咝阅、更低功耗和小型化的需求?qū)動(dòng)。先進(jìn)封裝技術(shù)在滿足這些需求方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用,通過實(shí)現(xiàn)多樣化組件的異構(gòu)集成。本文以參考文獻(xiàn)為基礎(chǔ)概述了先進(jìn)半導(dǎo)體封裝的主要趨勢和技術(shù)[1],非最新的信息,但可以見到技術(shù)的連續(xù)演進(jìn),當(dāng)年的預(yù)測依然正確。; s+ e+ _5 s( w# _0 b8 ?; K" A6 I
1 b% P4 Y, y6 o# ~
- C( g7 }: z$ S驅(qū)動(dòng)因素和應(yīng)用6 t2 ~: _! C }) r9 v; _
推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)增長的幾個(gè)主要應(yīng)用包括:
! r$ r( u% }& @, j移動(dòng)設(shè)備高性能計(jì)算自動(dòng)駕駛汽車物聯(lián)網(wǎng)(IoT)大數(shù)據(jù)和云計(jì)算邊緣計(jì)算
& F6 x& `4 f* E, m& j0 |% d0 t% S$ T2 N. {7 `1 j# M
這些應(yīng)用由人工智能和5G通信等系統(tǒng)技術(shù)驅(qū)動(dòng)因素推動(dòng)。為支持這些應(yīng)用,先進(jìn)封裝技術(shù)必須提供:
& ^/ L, ?/ P" j" S更高密度的集成改善電氣和熱性能降低成本加快上市時(shí)間' i! A# L) m8 i! B2 V! x9 C% l
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j. Z& R1 f* K% Z. B3 ~0 n7 ^. h2 i# s$ D
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# Z7 Y. F. D/ g9 i6 |' Z( ^0 F圖1:各種先進(jìn)封裝技術(shù)的性能和密度比較) [# M0 e L: q
; R0 a% O- f8 W主要先進(jìn)封裝技術(shù)( `6 H5 T+ o* P
1. 扇出型晶圓級(jí)封裝(FOWLP)
# [; q' l$ Y& d( x; W4 RFOWLP通過將芯片嵌入模塑料中并形成重布線層(RDL)來擴(kuò)展傳統(tǒng)的晶圓級(jí)封裝,從而扇出連接。這允許在更小的形狀因子中實(shí)現(xiàn)更高的I/O密度。
- T4 `1 s% c+ F) E ~+ z8 h; B% T: Q8 q& M
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圖2:采用芯片優(yōu)先、面朝下方法的扇出型晶圓級(jí)封裝橫截面8 ~, v" { f% O0 p4 y
0 h* m: F; n3 ~7 c# X8 e, {% I2. 使用中介層的2.5D集成5 ?' N0 s: ?' ?! e4 h
2.5D集成使用帶有硅通孔(TSV)的硅中介層來連接多個(gè)并排的芯片。這實(shí)現(xiàn)了高帶寬的芯片間連接。
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* G, d& x& u7 H7 I4 s5 d4 E' k& J圖3:臺(tái)積電的局部硅互連(LSI)技術(shù),用于2.5D集成
" A7 b: n: {4 i5 `4 |# G0 L* V! y8 a3 j* @4 i8 x5 K! Y5 K
3. 使用TSV的3D集成! H3 B$ e$ I+ Q! z( h7 o1 K. z
3D集成使用TSV垂直堆疊多個(gè)芯片進(jìn)行芯片間連接。這提供了最高的集成密度,但面臨熱管理和良率方面的挑戰(zhàn)。
0 `6 }- l4 W2 ], T" U$ i8 s8 {- Z6 w* c0 ~0 f0 t( @
4. Chiplet架構(gòu)
$ G+ ]$ ^6 f: S8 c6 RChiplet涉及將大型系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)設(shè)計(jì)分割成更小的芯片,然后使用先進(jìn)封裝進(jìn)行集成。這改善了良率并允許混合使用不同的制程節(jié)點(diǎn)。( g+ Z, A2 }3 l A9 j: h1 J3 r
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0 o8 _! D* Z3 Z! I6 K0 n圖4:AMD和英特爾基于Chiplet的處理器示例
& R+ R0 }. m! C7 k3 l# u
3 F# k# v& ]5 `) o" Q7 |6 X5. 混合鍵合
- L5 L2 K7 K1 a( w) v0 ~; h* Q# w混合鍵合實(shí)現(xiàn)了芯片之間在非常精細(xì)間距下直接銅對銅鍵合,無需使用微凸點(diǎn)。這為芯片到芯片的集成提供了最高的互連密度。1 } H9 {6 q( s! u
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[* T7 L& X3 @; I0 U* x; D圖5:微凸點(diǎn)鍵合和混合鍵合方法的比較- ^. B7 D: M* x" k: k
" w- c8 |; p9 `( k* a: ^
關(guān)鍵封裝工藝
& a1 @; Z" s5 G- D+ H9 n9 `9 t幾種關(guān)鍵工藝技術(shù)促進(jìn)了先進(jìn)封裝:
; ~$ H( m" V$ X) ]4 v% D1 R1. 晶圓凸點(diǎn)制作
% P# s% \$ k* V1 {: z; X晶圓凸點(diǎn)制作在芯片切割之前在晶圓上形成互連結(jié)構(gòu)。常見的凸點(diǎn)類型包括:
; \3 u8 b2 C5 |焊料凸點(diǎn)(C4)帶焊料帽的銅柱(C2)
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4 c1 b8 S& `( S& t$ u" C
圖6:C4和C2晶圓凸點(diǎn)制作的工藝流程# M: F+ Z" V; C0 t$ k. _# T6 Y
- x0 R# x" p }; m8 @
2. 芯片貼裝和互連
+ o1 N; e) \8 l+ Z將芯片連接到基板或其他芯片的方法包括:: ^( p* |* J( m
焊料凸點(diǎn)的回流熱壓鍵合(TCB)混合鍵合; j9 [7 M) r: h0 R) h/ X% h0 U
. p4 Y E* ] U
3. 底填
& j$ U S0 g& P: E底填材料被注入以填充芯片和基板之間的間隙,保護(hù)互連。
: H2 S. [$ \7 l! e4 j) j
3 |0 z$ I& V& E* P4. 重布線層(RDL)形成# i4 [4 L+ k8 h; m
RDL在芯片表面重新布線連接。主要RDL工藝包括:3 p) q$ ?9 ]7 q1 D1 J/ z
光刻電鍍蝕刻, ?4 j: ^- V% {2 H* G/ Q
3 K% v; a) D. }# F7 D( A$ }5. 模塑
7 L1 o7 g, q7 ~模塑料封裝芯片和互連以提供保護(hù)。方法包括:
+ d2 B/ I2 L9 B$ n& F& k傳遞模塑壓縮模塑
7 e. q+ u" o/ X' T* d6 O
. i7 ] u5 E/ n5 ^先進(jìn)封裝趨勢
d4 d3 |) l. G8 f1. 更精細(xì)的互連間距
. W, m8 x2 I# l9 ^' S, s互連間距持續(xù)縮小以實(shí)現(xiàn)更高密度的集成:
z( O2 m2 @1 j) N$ G翻轉(zhuǎn)芯片凸點(diǎn)間距:最小50μm1 M. G: i) f: c8 `; W
微凸點(diǎn)間距:最小20μm* k/ y! L/ C* g" ^! q- R2 K3 Z. k
混合鍵合間距:
# x! p7 D6 q o c8 ^0 G
/ k& V2 [2 @+ }/ z2. 面板級(jí)封裝4 x7 ?5 o6 P3 k+ k2 m
從晶圓級(jí)到面板級(jí)處理的轉(zhuǎn)變實(shí)現(xiàn)了更大的制造規(guī)模和更低的成本。
+ v+ n% q# \# c6 Y& Q
9 M9 o8 Q, J; F2 p, b3. 先進(jìn)基板2 ?1 G& S3 \. Y! e- Z
具有精細(xì)線/空間和嵌入式元件的有機(jī)基板正在實(shí)現(xiàn)更高密度的封裝。
8 J; l2 h# V1 u! ]; L1 P% s7 p- h/ F7 ]
4. Chiplet集成" a+ r" ^( k: G# G2 i
作為單片SoC的替代方案,Chiplet的異構(gòu)集成正在增長。$ T% X* _% y/ G- E: O7 @
0 R, [0 d- ^* i0 X1 y" i$ q
5. 光電共封裝 (Co-Packaged Optics)7 u. f7 t- P6 T+ u1 T8 q8 y
在封裝中集成光學(xué)元件正在實(shí)現(xiàn)更高帶寬的互連。
; O" y( J h9 B" B* q) V; O, n/ _
3 z# Y3 \' p5 r( U) H% a0 q6. 先進(jìn)熱管理4 ?+ w$ L/ Z/ _
正在開發(fā)微流體等新型冷卻解決方案來解決熱挑戰(zhàn)。
5 t0 v8 s, Z" g3 r. v( R3 _( l+ M5 i+ g" E a# l/ N. e- [% d- V
. k. |; f" R8 u! E% v9 B. C/ `6 ]* {
可靠性考慮. [# n) a* x& p6 M
隨著封裝變得更加復(fù)雜,確?煽啃宰兊弥匾V饕煽啃詥栴}包括:
3 Z4 ?- X6 p1 ~& s% I; l互連的熱循環(huán)疲勞跌落沖擊抵抗濕敏性電遷移應(yīng)力引起的翹曲3 p0 h" a Q# B! ^
- G; o% Y0 k! D' E& Z
需要先進(jìn)的建模和測試方法來預(yù)測和改善封裝可靠性。. o! E) e, r6 j7 f' h
; ~6 T' a$ Q) q# [. O
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% Y0 J$ g: }6 R2 y& ]
圖7:與單片設(shè)計(jì)相比,Chiplet方法對芯片良率的影響
9 |% ]2 j j0 Z! P6 o
: d3 y* _2 u2 _9 n; ]( _3 l# ?& w; v材料開發(fā)- B3 V1 y0 q4 @& s1 f, u
新材料對實(shí)現(xiàn)先進(jìn)封裝很重要,包括:
$ O- K; W9 y/ z. \$ u. L+ g; P. i6 {" A用于高頻應(yīng)用的低損耗介電材料低熱膨脹系數(shù)模塑料精細(xì)間距底填材料低溫焊料用于RDL的光敏介電材料
: T: U# |* |3 L( U) g
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圖8:封裝材料介電損耗(Df)的路線圖2 S0 g' ^8 a `, n) V7 o
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t, g0 Z' @! Q2 U2 v) F# t
圖9:封裝材料介電常數(shù)(Dk)的路線圖
1 E4 x2 x( O; A; }- {9 ^- I) ?3 }; `+ C
未來展望
2 ]) |( H0 P$ B) U/ X* P先進(jìn)封裝將繼續(xù)在推動(dòng)半導(dǎo)體創(chuàng)新方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。需要關(guān)注的關(guān)鍵領(lǐng)域包括:, n- l% E: i/ N+ \
晶圓級(jí)、面板級(jí)和PCB技術(shù)的融合Chiplet和芯片分解的增加采用超越焊料和銅的新型互連技術(shù)芯片和封裝的協(xié)同設(shè)計(jì)石墨烯等新材料的集成嵌入式冷卻解決方案用于封裝設(shè)計(jì)和優(yōu)化的人工智能6 C! d6 t6 v- _, H/ ]: a
* [- |4 m( i! B- O" m/ F
隨著封裝變得更加復(fù)雜并對整體系統(tǒng)性能更加重要,芯片設(shè)計(jì)師、封裝設(shè)計(jì)師和材料供應(yīng)商之間的更密切合作將變得不可或缺。
* D" H- {6 X, T |! |- a) T- e0 I% G( K
' _: b6 o* [6 z* f5 S結(jié)論( p! P4 q. K% V: O* e
先進(jìn)封裝正在快速發(fā)展以滿足下一代電子系統(tǒng)的需求。扇出型封裝、2.5D和3D集成以及Chiplet等技術(shù)正在實(shí)現(xiàn)前所未有的異構(gòu)集成水平。在材料、工藝和架構(gòu)方面持續(xù)創(chuàng)新對于克服挑戰(zhàn)和實(shí)現(xiàn)先進(jìn)封裝在未來應(yīng)用中的全部潛力將非常重要。7 y: ]' }) W' B; M
0 I% K, w! L% X Q/ X, i- t
. M3 t9 a8 `! W" m7 T; Z參考文獻(xiàn)$ n7 w: P& F) N( W
J. H. Lau, "Semiconductor Advanced Packaging," Singapore: Springer Nature Singapore Pte Ltd., 2021.6 t z. w# C. N- t; f: R* W# X$ k
1 |# J$ c: e' h3 _" J/ E. R+ ^, X5 t2 L6 H5 @6 G" Y
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