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一.布局問題: 1.【問題分析】:晶振X1和他的配套濾波電容不在同一層。 【問題改善建議】:晶振X1和他的配套濾波電容需放在同層,且先經(jīng)過濾波電容再進入晶振。 2.【問題分析】:此處器件沒有對齊,不美觀且對后期扇孔布線不利。 【問題改善建議】:布局時多使用對齊和等間距命令。 二.布線問題: 1.【問題分析】:GND1網(wǎng)絡(luò)還存在開路的情況。 【問題改善建議】:建議進行DRC檢查,將開路網(wǎng)絡(luò)連接。 2.【問題分析】:電源VDD18的分割存在瓶頸,中間的載流不夠;且分割出現(xiàn)直角。 【問題改善建議】:中間區(qū)域加寬,且分割的角度調(diào)整成鈍角。 3.【問題分析】:電源AGND的分割存在瓶頸,中間的載流不夠;且分割出現(xiàn)直角。 【問題改善建議】:中間區(qū)域加寬,且分割的角度調(diào)整成鈍角。 4.【問題分析】:存在stub線,會產(chǎn)生天線效應(yīng),干擾信號。 【問題改善建議】:建議設(shè)置好stub線的檢查規(guī)則,將多余的stub線刪掉。 5.【問題分析】:線寬超過管腳焊盤,焊接時容易造成短路。 【問題改善建議】:建議用和管腳焊盤線寬一致的線引出后再加粗連接。 6.【問題分析】:VDD33電源線這樣會有瓶頸,突然變得太細了;旁邊的線沒有連接到焊盤的中心,容易造成虛焊。 【問題改善建議】:建議加粗,走線時,shift+E抓取中心。 7.【問題分析】:光耦的中間走線了,會嚴(yán)重影響光耦的工作。 【問題改善建議】:光耦中間挖空,把中間的走線都移開。 8.【問題分析】:過孔的間距太小,造成平面割裂。 【問題改善建議】:建議拉開間距,或者修改下規(guī)則。 9.【問題分析】:濾波電容與管腳的連接的導(dǎo)線太細,載流不足。 【問題改善建議】:建議加粗處理,用和管腳寬度一致的線引出后再加粗。 三.生產(chǎn)工藝: 1.【問題分析】:所有過孔都開窗了,生產(chǎn)后裸露的部分容易腐蝕氧化,造成短路的情況。 【問題改善建議】:建議對過孔進行該有處理。 + k" x- |4 \" ?4 H( }
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