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氮化鎵功率器件技術(shù)的現(xiàn)狀與展望

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發(fā)表于 2024-11-8 08:00:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言
% |+ b' @7 F5 K7 _9 z0 l  h功率電子行業(yè)正在經(jīng)歷氮化鎵(GaN)技術(shù)帶來的重大變革。本文討GaN功率器件的關(guān)鍵特性、與碳化硅(SiC)和傳統(tǒng)硅技術(shù)的競爭狀況,以及在現(xiàn)代功率轉(zhuǎn)換系統(tǒng)中的應(yīng)用[1]。
9 |  o! v" b6 k5 ~' S$ s9 u7 I5 g, n+ @: d$ ^% s( `' Y
器件技術(shù)與基本概念
$ q, B/ |  p' {; [) g- m' N* vGaN功率器件通過其橫向器件結(jié)構(gòu)提供了獨(dú)特的優(yōu)勢。該技術(shù)利用GaN和AlGaN層之間界面形成的二維電子氣(2DEG),形成了具有極高電子遷移率的天然溝道。這種特性使GaN器件在性能指標(biāo)上優(yōu)于傳統(tǒng)硅器件。
( _6 e* p9 c# D: u
6 Q& B9 _: s- L) g1 A圖1展示了兩種主要的GaN HEMT結(jié)構(gòu):肖特基柵(左)和柵注入晶體管混合漏極結(jié)構(gòu)(右),顯示了兩種架構(gòu)的根本區(qū)別。* }- f$ W6 |+ J* v* ^% z( ?

+ q5 X2 N  V. U  N. f; I0 M與競爭技術(shù)的性能對(duì)比2 x* S6 n" ^" W0 E  Y2 C5 o  M
在600V/650V等級(jí)中,硅超結(jié)、碳化硅(SiC)和GaN三種主要技術(shù)相互競爭。每種技術(shù)在特定應(yīng)用場景中都具有獨(dú)特優(yōu)勢。
; h4 E" P7 B9 W, r* ?" R* @
$ A) O5 o) O1 a" _8 C圖2展示了SiC MOSFET和GaN HEMT相對(duì)于硅超結(jié)技術(shù)的關(guān)鍵參數(shù)對(duì)比,突出顯示了各自在基本開關(guān)線路中的優(yōu)勢。
7 y2 A6 m: T- A9 [& }  T  n2 L" |# `, _$ z# V6 U1 [! t& ?5 z7 p
高級(jí)應(yīng)用與實(shí)現(xiàn)! D6 e2 I$ O  {' b
功率因數(shù)校正(PFC)是GaN技術(shù)最重要的應(yīng)用之一,F(xiàn)代PFC線路已從傳統(tǒng)的升壓拓?fù)浒l(fā)展到更高效的推挽配置。# w0 m- Z9 B* H3 [, j) Z" J

) t, m( Z( K- q5 n, ?0 e圖3展示了工作在1.8至2.4 MHz三角波電流模式的220W PFC級(jí),展現(xiàn)了GaN技術(shù)的高頻能力。* S" p9 S4 ~% U. f

' u& ~" }, z# e8 s) _DC/DC轉(zhuǎn)換是GaN技術(shù)的另一個(gè)重要應(yīng)用領(lǐng)域,特別是在高頻操作方面。先進(jìn)的實(shí)現(xiàn)方案采用復(fù)雜的變壓器配置和調(diào)制方案,實(shí)現(xiàn)了極高的功率密度。
! z7 r$ j: U3 a* O 6 f2 B/ _" t+ @( B: ~2 }& F
圖4展示了可工作在700 kHz的LLC演示系統(tǒng),采用堆疊式矩陣變壓器結(jié)構(gòu)(左)和三電平調(diào)制(右)。5 A- m# a: ]( x) y$ S

  N" R3 K" \* K: m技術(shù)發(fā)展與創(chuàng)新
- {6 |% |2 f5 @' \7 j3 L: p8 aGaN技術(shù)的一個(gè)重要發(fā)展方向是單片雙向開關(guān)。這種創(chuàng)新器件可以在兩個(gè)極性下阻擋電壓,并在第一和第三象限主動(dòng)控制電流,為功率轉(zhuǎn)換架構(gòu)提供新的解決方案。9 u/ f/ n. M& `7 J4 H, z; W+ ]

$ s5 ?) D/ L3 s* f% p. S' U圖5展示了單片雙向GaN HEMT結(jié)構(gòu)(左)及其在單級(jí)功率轉(zhuǎn)換中的潛在應(yīng)用(右),展現(xiàn)了該技術(shù)的發(fā)展方向。
7 C0 N0 X. V3 r  y, E
+ H3 ~* t5 p- u) F' e技術(shù)選擇指南7 w( v- U- \6 ?8 U* h
選擇合適的技術(shù)需要根據(jù)具體應(yīng)用要求:! X+ Z5 o) C- b7 n/ ?6 {
1. 硅超結(jié)器件:
1 b% Z" P0 X6 d, f: j; U; M! r5 @
  • 適用于單端硬開關(guān)應(yīng)用
  • 適合低至中等開關(guān)頻率的諧振變換器
  • 隨著技術(shù)進(jìn)步持續(xù)改進(jìn)
    1 J$ K4 F* ^% r; t! Q1 e- g
    % k8 V" ~. }' e/ N
    ! }& k7 d# s# Z1 B' ^1 |6 U% p
    2. SiC MOSFET:& }& A; b" J! ^) y* I: J6 P
  • 在硬開關(guān)半橋和全橋線路中表現(xiàn)優(yōu)異
  • 具有優(yōu)良的溫度系數(shù)特性
  • 在連續(xù)電流模式應(yīng)用中性能出色
    + h0 @# i0 U9 S. F+ K7 ~

    ! g9 {* F! E2 t: n3. GaN HEMT:- {' I, G* p% f) N) _/ w
  • 在高頻應(yīng)用中占據(jù)優(yōu)勢
  • 適合諧振變換器
  • 在三角波電流調(diào)制實(shí)現(xiàn)中表現(xiàn)優(yōu)異
  • 可實(shí)現(xiàn)極高的功率密度5 {9 b: N4 V8 w3 ]/ N4 J

    7 o& q  k8 {) s6 h* y  \功率電子技術(shù)領(lǐng)域不斷發(fā)展,每種技術(shù)都找到了最適合的應(yīng)用空間。特別是GaN技術(shù)在高頻率和高效率應(yīng)用方面表現(xiàn)出顯著優(yōu)勢。單片雙向開關(guān)的出現(xiàn)代表了重要進(jìn)步,可能對(duì)單級(jí)功率轉(zhuǎn)換架構(gòu)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。/ L% k0 X/ f; v4 ~2 X) @9 `0 u

    3 Q3 G- D8 m, v: M$ `, V參考文獻(xiàn)
    ; A* e: O4 \8 d# F+ T. Y[1] G. Deboy and M. Kasper, "Positioning and Perspectives of GaN-Based Power Devices," in GaN Technology: Materials, Manufacturing, Devices and Design for Power Conversion, M. Di Paolo Emilio, Ed. Cham, Switzerland: Springer Nature Switzerland AG, 2024, ch. 8, pp. 353-360.7 Y: ~2 X* F+ F  y0 G5 W8 g1 L" i
    END
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    ) F7 ^8 l, C% }深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。4 I& _: M: F; s- z
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