流量控制器MFC2000在單晶爐設備的半導體行業(yè)中應用

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單晶硅爐，也稱全自動直拉單晶生長爐，是一種在惰性氣體（氮氣、氦氣為主）環(huán)境中，用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生長無錯位單晶的設備，將多晶硅原料放在爐體的石英坩堝內進行高溫熔化（1450℃以上），在低真空度和氬氣保護下，通過紫晶插入多晶硅熔體后，在紫晶周圍形成過冷態(tài)并進行有規(guī)律生長，形成一根單晶棒體。由主機、加熱電源和計算機控制系統(tǒng)三大部分組成。

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6 G& K; w8 w' e+ z9 @直拉單晶爐可以用于生產(chǎn)硅、鎵、鍺等半導體材料的單晶，這些單晶材料被廣泛應用于集成電路、太陽能電池和光電器件等領域。
（1）光伏行業(yè)發(fā)展：隨著全球對可再生能源的需求增加，光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。單晶爐作為光伏產(chǎn)業(yè)的關鍵設備，其市場需求將持續(xù)增長。
' q- U& W+ f! l$ C4 R5 Z5 {2 {+ O（2）半導體行業(yè)發(fā)展：隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術的快速發(fā)展，半導體市場需求也在增加。單晶爐在半導體工業(yè)中起著關鍵作用。通過生長單晶硅棒，可以制備出高純度的硅單晶片，進而用于制造集成電路（IC）和其他半導體器件，如太陽能電池、光電二極管等。單晶爐也被廣泛應用于光學領域，可以制備出高質量的光學元件，如激光晶體、光纖、光學窗口等，用于激光器、光通信、光學儀器等領域。
& f+ d6 d% b7 M2 ^! X% u其中單晶爐及晶爐設備是需要在惰性氣體（氮氣、氦氣為主）環(huán)境中工作，需要很核心的器件流量控制器，去控制設備中的氣體需求量。
質量流量控制器MFC不僅能測量氣體的流量，具備流量計的功能，其測量值不因 壓力或溫度的波動而失準，不需要進行壓力溫度修正;而且它還可以控制流量，本身具有檢測控制電路和流量調節(jié)閥，是一個閉環(huán)控制單元。用戶可以根據(jù)需要在量 程范圍內任意給定流量設定值，質量流量控制器可以在輸入的氬氣壓力或環(huán)境溫度 發(fā)生變化時，自動跟蹤設定值而改變流量并穩(wěn)定在設定值上，保證輸送的氬氣流量不產(chǎn)生波動，從而穩(wěn)定單晶爐爐內的真空度在2.6 kPa左右。
9 D+ b9 `6 S/ S% T( n6 g下面來自工采傳感（ISWEEK）代理**SIARGO的一款高精度，量程范圍寬可選的流量控制器MFC2000系列。

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MFC2000系列質量流量控制器采用公司專有的MEMS Thermal-D操作"“熱量傳感技術與智能控制電子設備，這種獨特的質量流量傳感技術消除了一些擴散率相似的氣體的氣體敏感性，并允許在編程后進行氣體識別。本產(chǎn)品可用干動態(tài)范圍為100:1的過程控制，其控制范圍為0.1至0.8MPa(15至120 PSL)的壓力和0至50℃的補償溫度。量程在50mL/min到200L/min不同范圍可選，帶有數(shù)字RS485 Modbus通信和模擬輸出。
該產(chǎn)品的設計便于更換機械連接器，標準連接器可選雙卡套、VCR或UNF，其他定制連接器可根據(jù)要求**。
SIARGO的MFC2000流量控制器在CVD設備中具有很重要的作用，可以精準測量和控制氣體的大小，可以很好的實現(xiàn)在高溫度、高精度、高分辨中使單晶棒體的高純度生長。
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