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PCB干膜使用時(shí)破孔/滲鍍問(wèn)題改善辦法

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發(fā)表于 2015-1-21 14:51:19 | 只看該作者 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
隨著電子產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,PCB布線越來(lái)越精密,多數(shù)PCB廠家都采用干膜來(lái)完成圖形轉(zhuǎn)移,干膜的使用也越來(lái)越普及,但我在售后服務(wù)的過(guò)程中,仍遇到很多客戶在使用干膜時(shí)產(chǎn)生很多誤區(qū),現(xiàn)總結(jié)出來(lái),以便借鑒。
, C' P2 j! l  V
' p8 O) ?$ \( \6 `& N    一、干膜掩孔出現(xiàn)破孔 0 u& ^6 `) C  D' c! K/ P: c( }

& [3 S, R" W0 c# ?( [8 B8 C* K  很多客戶認(rèn)為,出現(xiàn)破孔后,應(yīng)當(dāng)加大貼膜溫度和壓力,以增強(qiáng)其結(jié)合力,其實(shí)這種觀點(diǎn)是不正確的,因?yàn)闇囟群蛪毫^(guò)高后,抗蝕層的溶劑過(guò)度揮發(fā),使干膜變脆變薄,顯影時(shí)極易被沖破孔,我們始終要保持干膜的韌性,所以,出現(xiàn)破孔后,我們可以從以下幾點(diǎn)做改善:
8 B( x) v! G) h0 n$ N3 @& J8 x, J% p$ @( v1 [6 K* t+ D
  1,降低貼膜溫度及壓力 ! b/ O- ]7 H6 I  k7 `' C! W
  2,改善鉆孔披鋒
) g$ X+ x$ X+ J  V5 [  3,提高曝光能量 1 |$ v# J& g- M" f) N) R% h
  4,降低顯影壓力 % o4 `; o6 P' p! t
  5,貼膜后停放時(shí)間不能太長(zhǎng),以免導(dǎo)致拐角部位半流體狀的藥膜在壓力的作用下擴(kuò)散變薄 + S1 M/ W0 C2 v( L$ m9 M
  6,貼膜過(guò)程中干膜不要張得太緊
) z  D( ~7 l3 `5 i$ w& Y8 Y4 `
( T9 J) h3 Q- m二、干膜電鍍時(shí)出現(xiàn)滲鍍
/ x2 l( s4 g1 P2 j. I' L" t( ~0 g5 V6 J: X  d- j
  之所以滲鍍,說(shuō)明干膜與覆銅箔板粘結(jié)不牢,使鍍液深入,而造成“負(fù)相”部分鍍層變厚,多數(shù)PCB廠家發(fā)生滲鍍都是由以下幾點(diǎn)造成:
$ ~( x$ f. d' e9 I! |: q$ O% Z
& G3 u$ j- Q# d7 j, n- ~) {/ F1 l9 @  1,曝光能量偏高或偏低
1 p$ M2 ]& Q( W2 l9 f; t/ }9 G  b6 v3 ^8 F+ w+ U
  在紫外光照射下,吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進(jìn)行光聚合反應(yīng),形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。曝光不足時(shí),由于聚合不徹底,在顯影過(guò)程中,膠膜溶脹變軟,導(dǎo)致線條不清晰甚至膜層脫落,造成膜與銅結(jié)合不良;若曝光過(guò)度,會(huì)造成顯影困難,也會(huì)在電鍍過(guò)程中產(chǎn)生起翹剝離,形成滲鍍。所以控制好曝光能量很重要。 9 ?" U) M  g" c# f5 ?
' b# _1 c9 O7 h9 B! Z  }- I: a6 Y+ y
  2,貼膜溫度偏高或偏低
% V5 k  d+ V' H4 N( @% b6 W- {" ]' p
* h% f, x3 H% n& A5 Y  如貼膜溫度過(guò)低,由于抗蝕膜得不到充分的軟化和適當(dāng)?shù)牧鲃?dòng),導(dǎo)致干膜與覆銅箔層壓板表面結(jié)合力差;若溫度過(guò)高由于抗蝕劑中的溶劑和其它揮發(fā)性物質(zhì)的迅速揮發(fā)而產(chǎn)生氣泡,而且干膜變脆,在電鍍電擊時(shí)形成起翹剝離,造成滲鍍。
4 R; f/ _0 u" `! |) o% \; G! F# _& {( W; q1 h" M$ A( a# Q
  3,貼膜壓力偏高或偏低 3 c/ C2 j1 _) i, s% `# p5 f

% v. `# I$ |' G  貼膜壓力過(guò)低時(shí),可能會(huì)造成貼膜面不均勻或干膜與銅板間產(chǎn)生間隙而達(dá)不到結(jié)合力的要求;貼膜壓力如果過(guò)高,抗蝕層的溶劑及可揮發(fā)成份過(guò)多揮發(fā),致使干膜變脆,電鍍電擊后就會(huì)起翹剝離。
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